Электростатические методы исследования динамики ЭУФ-индуцированной плазмы

Исследована низкоплотная плазма, образующаяся в водороде вблизи поверхности, облучаемой экстремальным ультрафиолетовым (ЭУФ) излучением с длиной волны 13,5 нм. Плазма образуется в результате прямой ионизации фотонами и ударной ионизации фотоэлектронами, выходящими из поверхности. Отличительная особенность такой плазмы - короткое время формирования (около 100 нс) и короткое время распада (несколько мкс). Приводятся диагностические инструменты, разработанные специально для такой плазмы, и результаты исследований, проведённых с помощью этих инструментов. На основе полученных результатов сделаны выводы о механизмах формирования плазмы во время импульса ЭУФ-излучения и энергетическом спектре ионов, приходящих на поверхность в процессе распада.