Моделирование кинетических процессов в аргон-силановой высокочастотной плазме пониженного давления

Объект исследования - аргон-силановая плазма пониженного давления. Цель исследования - количественное описание состава аргон-силановой плазмы с учетом влияния пылевых частиц на кинетику электронов. Для пылевой слабоионизованной плазмы аргона и смеси аргон - силан определены зависимости электронных кинетических коэффициентов от приведенного поля. Разработана модель переноса нейтральных частиц химически-активной плазмы в диффузионном приближении. Получены стационарные значения концентраций продуктов разложения моносилана. Исследована кинетика газофазных реакций образования и гибели силановых радикалов. Область применения: входные параметры для гидродинамических моделей газовых разрядов в аргоне и аргон-силановой смеси при наличии пылевых частиц; оптимизация режимов работы устройств плазмохимического синтеза аморфного кремния.