Генерация плазмы и синтез покрытий с интенсивным ионным сопровождением в газоразрядных системах с плазменным и самонакаливаемым катодами

Работа посвящена решению проблемы управления параметрами вакуумно-плазменного ситеза покрытий. Проведено комплексное исследование условий генерации плазмы в устройствах осаженеия покрытий с помощь источника широкого пучка низкоэнергетических электронов на основе разряда с плазменным катодом. Рассмотрены проблемы эмиссии плазменного катода в условиях генерации пучковой плазмы и наличии встречного плотного потока ионов. Разработаны эффективные способы реализации интенсивного ионного сопровождения и активации газовой среды в системах осаждения покрытий, обеспечивающие независимую регулировку в широких пределах параметров ионного потока (от долей до десятков мА/см2 и от десятков до сотен эВ), массового состава и зарядового состояния частиц газа. На основе сильноточного разряда с самонакаливаемым полым катодом расширены возможности комбинированной системы осаждения покрытий и разработан способ и подготовлена научно-техническиая база для высокоскоростного синтеза покрытий реакционным анодным испарением.