Теоретические и экспериментальные основы формирования поликристаллических алмазных пленок с низким уровнем внутренних напряжений.

Разработан принципиально новый метод формирования алмазных пленок с многослойной структурой и контролируемым размером кристаллитов. Найдены наиболее оптимальные режимы осаждения для обеспечения стабильной вторичной нуклеации алмаза на алмазе, такие как: давление в реакторе, температура на разных стадиях осаждения, плотности тока при ионной бомбардировке, состав газовой атмосферы и т.д. Исследован фазовый состав алмазных пленок в зависимости от размера зерен, установлены фазовые состояния углерода в каждой стадии роста пленки. Синтезированы алмазные пленки с размером зерен от 1 до 120 мкм и толщиной слоев от 1 до 30 мкм. Исследовано влияние нитридных (TiN, CrN) подслоев, наносимых для релаксации части внутренних напряжений, на адгезионные свойства алмазных покрытий. Проведены сравнительные исследования внутренних напряжений в однослойных и многослойных пленках, и установлено, что с увеличением количества слоев и уменьшением толщины каждого слоя механические напряжения между пленкой и подложкой существенно снижаются за счет их распределения в толще пленки.