Исследование физико-химических свойств и электрофизических характеристик структур металл/оксид/металл

Объект исследования - многослойные наноструктурированные пленки оксидов металлов, обладающие мемристорным эффектом. Цель исследования - разработка технологии атомно-слоевого осаждения наноструктурированных пленок оксидов металлов как базового метода создания структур металл/оксид/металл (мемристоров); проведение их комплексных исследований при вариации технологических параметров, окружающей среды и конструктивных особенностей для оптимизации мемристоров как элементов энергонезависимой памяти. Представлены: результаты экспериментальных исследований элементного состава, распределения элементов по глубине, микроструктуры тонких пленок оксидов металлов (Al, Ti, Hf) и структур на их основе; результаты исследований влияния температуры и рабочей среды; протокол рабочего семинара; материалы конференции.