Осаждение металлических, композитных и нитридных пленок в потоке атомов металла и быстрых молекул газа

Цель: изучение влияния параметров тлеющего разряда и подаваемых на эмиссионную сетку высоковольтных импульсов на скорость осаждения покрытий, их структуру и адгезию. Разработан, изготовлен и исследован источник импульсных пучков круглого сечения нейтральных атомов газа с энергией 5 - 25 кэВ, сопровождающих атомы мишени, распыляемой на дне полого катода ионами из плазмы тлеющего разряда с полым катодом, от общей для распыляемых атомов и высокоэнергетических атомов газа эмиссионной сетки диам. 24 см до поверхности обрабатываемого изделия. В источнике впервые реализован метод формирования широкого пучка нейтральных атомов газа с энергией до 25 кэВ путем ускорения ионов высоковольтными импульсами отрицательной полярности на эмиссионной сетке и их перезарядки в слоях положительного объемного заряда у поверхности сетки. Показано, что с увеличением энергии атомов газа от 5 до 25 кэВ плотность, микротвердость и адгезия покрытий возрастают. Разработаны физические основы синтеза покрытий с улучшенными характеристиками на изделиях из диэлектриков и других материалов.