Синтез и модификация нанокомпозитов, субмикронных слоев и микроструктур с использованием ионных и световых пучков

Исследованы тонкие пленки и субмикронные слои, сформированные методом ионной имплантации, ионно-стимулированного осаждения, вакуумного напыления, а также методом последующего импульсного лазерного/ионного отжига. Они включают имплантированные слои Si, Ge, SrTiO₃, природного кварца, нанокристаллического железа, полимера, полупроводникового дисилицида бария, силицида кобальта, гетероструктур n-Ge:Sb/p-Ge (p-Si). Цель исследования - разработка ионно-лучевых и импульсно-энергетических методов формирования нанокомпозитных материалов и субмикронных слоев, изучение структуры и свойств полученных материалов с использованием современных физических методов. Основные задачи 2017 г.: проведение экспериментов по синтезу нанокомпозитов, субмикронных слоев и микроструктур путем имплантации ионов переходных металлов группы железа, ионов благородных металлов в приповерхностные слои широкозонных оксидных полупроводников (TiO₂), элементарных полупроводников (Si, Ge), полимеров, сегнетоэлектриков с целью формирования новых функциональных материалов: нанокомпозитные материалы с металлическими наночастицами, мультиферроики, магнитные полупроводники, ферромагнитные наноструктуры, магнитно-анизотропные и изотропные наноструктурированные слои, магнитно-анизотропные пленки нанокристаллического железа, и др.