Совершенствование методов модификации поверхности материалов воздействием электронных и ионных пучков и плазменных потоков (итоговый)

Объект исследования: газоразрядные устройства для нанесения покрытий, а также покрытия или приповерхностные слои материалов, подвергнутые упрочняющей обработке в плазме газовых разрядов или электронного пучка. Цель: разработка новых эффективных устройств и методов плазменной обработки поверхности и исследование структуры, состава и свойств сформированных покрытий или приповерхностных слоев. Разработка экспериментального образца источника широкого электронного пучка на основе разряда с самонакаливаемым полым катодом для генерации плотной плазмы (10¹¹ см⁻³) в больших объемах. Разработанный источник электронов обеспечивает ток пучка до 50 А в стационарном и до 200 А в импульсно-периодическом режиме работы, ускоряющее напряжение составляет от 0,1 до 0,5 кВ. Область стабильной работы источника по давлению - 0,1 - 1 Па. Эффективность разработанного устройства определяется высокой степенью разложения молекулярных газов и паров кремнийорганических соединений в импульсной плазме электронного пучка и высокой плотностью ионного потока на образцы, что обеспечивает получение нанокристаллических покрытий с рекордно высокими свойствами.