Обоснование и выбор направления исследований и разработок

Выбрано и обосновано направление исследований по формированию наноструктурированных пленок и фоторезистивных слоев исходя из современного состояния и перспектив развития науки за рубежом и в Российской Федерации. Определены: основные параметры формирования наноструктурированных пленок и фоторезистивных слоев методом итерационного аэрозольного распыления на стандартные кремниевые пластины; параметры подготовки исходных коллоидных растворов и их состава, пригодных для формирования однородных по толщине полимерных пленок и функциональных наноструктурированных слоев композитных материалов на основе углеродных нанотрубок (УНТ) методом итерационного аэрозольного распыления. Дано обоснование применение смеси растворителя с различными точками кипения в составе распыляемых растворов, и осуществлен подбор такого их сочетания, которое бы обеспечивало наилучшую однородность по толщине и шероховатость формируемой пленки. Разработаны требования к конструкции макета автоматизированной системы формирования наноструктурированных слоев, к управляющей электронике макета автоматизированной системы формирования наноструктурированных слое, к системе подачи раствора с поддержанием обратной связи для макета автоматизированной системы формирования наноструктурированных слоев, к распылительному узлу макета автоматизированной системы формирования наноструктурированных слоев. Проведены патентные исследования в соответствии с ГОСТ Р 15.011-96.