Исследование структурно-фазовых состояний порошков оксинитридов алюминия, полученных с использованием плазменных технологий, текстурообразования материалов на основе низкосимметричных соединений, и воздействия плазменного фокуса на структуру сверхпроводящих композитов

Исследована структура порошков оксинитрида алюминия, полученных методом плазмохимического синтеза, с общим содержанием азота ~ 7 мас. %. Они содержат до 50% фазы ALON вместе с политипоидами, обладающими квазиодномерными сверхструктурами, образованными повторением ячейки типа AlN. Заниженные значения занятости позиций и величин периода решетки фазы ALON (7,935Å) в порошках указывают на то, что их химический состав находится вблизи границы области ее гомогенности, прилегающей Al₂O₃. Исследование указывает на наличие вакансий в кислородной подрешетке фазы ALON. Неравновесный характер порошков предполагает необходимость дополнительных отжигов для достижения однофазной композиции, содержащей ALON.Для низкосимметричных соединений разработана методика рентгеновской съемки неполных прямых полюсных фигур для восстановления функции распределения ориентировок, а также полных прямых полюсных фигур с применением программного продукта Texxor. Методика успешно опробована для исследования текстуры покрытий из гидроксиапатита, полученных плазменным напылением на подогретую до 550°С титановую подложку. Выявлена рассеянная базисная текстура на поверхности гидроксиапатитного покрытия, характеризующаяся ориентировкой. Продолжены исследования влияния ударно-волнового плазменного воздействия (УВВ) на структуру и свойства сверхпроводящих композитов на основе Bi-ВТСП. Рентгеновским методом Ритвельда изучены локальные изменения в структуре, фазовом составе, текстуре, морфологии и микроструктуре поверхности сверхпроводящего керна, в зависимости от выбранных условий обработки: типа и вида подложки (Fe, Al, Sn, Ti, Mo, Ta, Ag), расстояния от плазменного анода, количества ударов. Показано, что в зависимости от выбранных условий сверхпроводящий керн может как деградировать с увеличением аморфной составляющей, так и приобретать направленную текстуру с сохранением исходного фазового состава и повышением токовых характеристик. Наилучшие показатели при УВВ достигнуты при использовании прокладок из молибдена, количестве ударов (n) n = 5 - 8, расстоянии от плазменного анода (t) t = 35- 60 мм.