Изготовление и измерение электрофизических характеристик макетов перспективных микросистем на основе тонкопленочных наноструктур с магнитострикционным эффектом более 1,0%. Обобщение и оценка полученных результатов

Объект исследования - тенденции развития и конструктивно-технологические методы изготовления тонкопленочных магниторезистивных наноструктур с магнитострикционным эффектом для создания на их основе перспективных микросистем. Цель исследования - разработка конструктивно-технологических методов изготовления тонкопленочных наноструктур с магнитострикционным эффектом для создания на их основе перспективных микросистем. В рамках третьего этапа проведены измерения электрофизических характеристик макетов перспективных микросистем на основе тонкопленочных наноструктур с магнитострикционным эффектом и подготовлены соответствующие протоколы. Выполнена оценка предельно-допустимых электрофизических параметров изготовленных перспективных микросистем на основе тонкопленочных наноструктур с магнитострикционным эффектом. Откорректирована эскизная конструкторская документация на макеты перспективных микросистем на основе тонкопленочных наноструктур с магнитострикционным эффектом. Составлен отчет о полученных результатах и проделанной работе по созданию и исследованию перспективных наноструктур с магнитострикционным эффектом и микросистем на их основе. Подготовлено предложение о постановке НИОКР по разработке оптимизированной конструкции перспективных микросистем на основе тонкопленочных наноструктур с магнитострикционным эффектом. В результате выполнения НИР определены и получены тонкопленочные магниторезистивные наноструктуры с коэффициентом более 1% относительного изменения сопротивления, обусловленного нагрузкой, вследствие магнитострикционного эффекта.