Разработка и исследование технологических основ формирования композитных наноструктурированных пленок, а также пленок фоторезиста и других полимеров

Цель: разработка автоматизированной установки и оптимизация процесса получения наноразмерных поверхностных пленок на различных поверхностях подложек методами аэрозольного и электроакустического напыления коллоидных растворов для формирования структур с прогнозируемыми физико-механическими свойствами, нанесения фоторезиста и создания защитных и функциональных полимерных покрытий для микро- и органической электроники. Получены экспериментальные образцы наноструктурированных пленок на поверхности полимерных материалов и подложках из кремния методом аэрозольно-ультразвукового распыления коллоидных растворов неорганических наночастиц, и исследованы толщина, однородность и оптическая прозрачность полученных пленок. Разработаны лабораторные регламенты нанесения фоторезиста методом аэрозольно-ультразвукового распыления на стандартные кремниевые пластины и гибкие подложки и формирования наноструктурированных пленок из коллоидных растворов методом аэрозольно-ультразвукового распыления. Проведено исследование равномерности полимерных покрытий в сравнении с традиционными средствами формирования полимерных пленок различной толщины на различных поверхностях.