ИКРБС
№ АААА-Б19-219060790012-9Электрофизические аспекты электронно-лучевых технологий обработки стекла на основе форвакуумных плазменных источников электронов (итоговый отчет)
05.12.2018
Проект направлен на создание фундаментальных основ принципиально новой технологии электронно-лучевой обработки стеклянных изделий на основе использования форвакуумных плазменных источников электронов. Конкретная задача проекта состоит в исследовании физических механизмов, определяющих особенности процессов электронно-лучевого воздействия на стекло, оптимизации параметров электронного пучка, генерируемого форвакуумным плазменным источником электронов, обеспечивающих эффективную возможность электронно-лучевой обработки (нагрева, плавки, пайки, сварки, модификации поверхностных свойств) стекла. Электронно-лучевая обработка стекла будет представлять собой реальную альтернативу лазерным и плазменным методам.
ГРНТИ
29.27.23 Пучки в плазме
31.15.21 Газы. Жидкости. Аморфные тела
Ключевые слова
ПЛАЗМА
УЗКОСФОКУСИРОВАННЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ ПУЧОК
ЭМИССИЯ ЭЛЕКТРОНОВ
Детали
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "РОССИЙСКИЙ ФОНД ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ"
Исполнитель
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники"
Похожие документы
Электрофизические аспекты электронно-лучевых технологий обработки стекла на основе форвакуумных плазменных источников электронов
0.994
НИОКТР
Электронно-лучевая и ионно-плазменная модификация электроизоляционных и диэлектрических конструкционных материалов импульсным форвакуумным плазменным источником электронов на основе дугового разряда
0.929
НИОКТР
Форвакуумный плазменный источник электронов на основе дугового разряда для электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации протяженных диэлектрических изделий
0.928
НИОКТР
Научные основы электронно-лучевой технологии создания многокомпонентных диэлектрических материалов и покрытий с использованием форвакуумных плазменных источников электронов
0.925
НИОКТР
Научные основы электронно-лучевой технологии создания многокомпонентных диэлектрических материалов и покрытий с использованием форвакуумных плазменных источников электронов
0.925
НИОКТР
Электрофизические аспекты электронно-лучевых технологий обработки стекла на основе форвакуумных плазменных источников электронов (промежуточный отчет за 2 год)
0.921
ИКРБС
Физические основы электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации диэлектрических материалов, а также синтеза диэлектрических покрытий в форвакуумной области давлений.
0.921
НИОКТР
Электронно-лучевой синтез в пучковой плазме теплозащитных керамических покрытий с использованием форвакуумных плазменных источников электронов
0.921
НИОКТР
Физические основы электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации диэлектрических материалов, а также синтеза диэлектрических покрытий в форвакуумной области давлений.
0.921
НИОКТР
Генерация форвакуумным плазменным источником электронов сфокусированных непрерывных и импульсных электронных пучков для прецизионной обработки диэлектрических материалов.
0.918
НИОКТР