ИКРБС
№ АААА-Б19-219060790083-9ОТЧЕТ О НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКОЙ РАБОТЕ по теме «Синтез наностуктур в системе А3В5 на поверхности гибридных подложек SiC/Si: эксперимент и теория»
31.01.2019
Продемонстрирована принципиальная возможность синтеза GaP и InP ННК методом МПЭ на подложке SiC плёнкой графена. Результаты структурных исследований выращенных ННК показали, что ННК сформировались в вюрцитной фазе. InP ННК на такой подложке не имеют дефектов упаковки и обладают практически идеальным кристаллографическим качеством. Синтезированы GaAs ННК на поверхности SiC-подложки, покрытой моно- и бислоями графена. Рост ННК осуществлялся преимущественно в областях с бислоями графена на границе ступеней, которыми была терминирована поверхность подложки. В процессе роста сформировался массив ННК с произвольными углами наклона к плоскости подложки. Измерение ВАХ одиночных ННК с помощью СЗМ-зонда выявило наличие Шоттки-барьера между ННК и графеном. Исследовался также рост ННК в системе InxGa₁₋ₓAs с различным составом по индию x = 0; 0,25; 0,33 и 0,5. Оценка диаметра ННК в случае InAs затруднительна, так как ННК испытывают периодические колебания под действием пучка электронов при СЭМ-измерениях, однако можно утверждать, что его величина не превышает 10 нм. Установлено, что происходит спонтанное легирование кремнием GaN ННК, выращенных на подложке SiC/Si(111). Наблюдаемый эффект резко усиливается на вицинальных образцах, что приводит к сверхлегированию GaN ННК. Концентрация свободных электронов в GaN ННК, оцененная по сдвигу Бурштейна - Мосса, составила ~ 7•10¹⁹ см⁻³. Приведено теоретическое описание наблюдаемого эффекта. Продемонстрирована возможность роста планарных слоев на поверхности подложки SiC/Si, рамоновские спектры свидетельствуют о высоком структурном совершенстве GaN-слоя. Показано, что для системы InGaN/SiC/Si наноструктур, их морфологические свойства структуры претерпевают значительные изменения в условиях номинального поддержания температуры подложки. На начальном этапе формируется подслой из плотноупакованных наностержней, переходящий на следующей стадии в ННК, приобретая форму «наноцветов» на заключительной. Данные структуры обладают высоким оптическим совершенством до комнатной температуры и выше, причем спектр ФЛ достаточно широк и обладает свойствами «белого цвета» при комнатной температуре.
ГРНТИ
29.19.22 Физика наноструктур. Низкоразмерные структуры. Мезоскопические структуры
29.19.16 Физика тонких пленок. Поверхности и границы раздела
29.19.31 Полупроводники
Ключевые слова
НАНОСТУКТУРЫ
МОЛЕКУЛЯРНО-ПУЧКОВАЯ ЭПИТАКСИЯ
СОЕДИНЕНИЯ А3В5
ГИБРИДНЫЕ ПОДЛОЖКИ SIC/SI
НИТЕВИДНЫЕ НАНОКРИСТАЛЛЫ
КВАНТОВЫЕ ТОЧКИ
ФОТОНИКА
ФОТОВОЛЬТАИКА
Детали
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ "САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКИЙ НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ АКАДЕМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМЕНИ Ж.И. АЛФЕРОВА РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК"
Похожие документы
ОТЧЕТ О НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКОЙ РАБОТЕ по теме «Синтез наностуктур в системе А3В5 на поверхности гибридных подложек SiC/Si: эксперимент и теория»
0.958
ИКРБС
Синтез непланарных наногетероструктур на основе III-N полупроводниковых материалов на кремнии методом молекулярно-пучковой эпитаксии и их свойства
0.946
Диссертация
Исследование процессов роста и свойств гибридных наноструктур при молекулярно-пучковой эпитаксии
0.941
ИКРБС
Наноструктуры: физика, химия, биология, основы технологий
0.935
ИКРБС
Планарные и наноразмерные эпитаксиальные гетероструктуры Ga(N,P) на кремнии и сапфире: структурные и оптические свойства
0.933
Диссертация
Фундаментальные исследования эпитаксиальных гетероструктур для СВЧ микро и наноэлектроники
0.933
ИКРБС
Исследование процессов роста и свойств гибридных наноструктр при молекулярно-пучковой эпитаксии
0.933
ИКРБС
Разработка метода твердофазной эпитаксии низкодефектных пленок широкозонных полупроводников на кремниевых подложках для микро- и оптоэлектроники
0.933
НИОКТР
-Синтез наностуктур в системе А3В5 на поверхности гибридных подложек SiC/Si: эксперимент и теория
0.932
НИОКТР
Физико-химические особенности ионного синтеза систем с нанокристаллами GaN в матрицах Si, Si₃N₄ и SiO₂ для применения в оптоэлектронике
0.932
Диссертация