ИКРБС
№ АААА-Б19-219073090068-3Развитие технологии формирования и исследование наноструктур и новых компонентов наноэлектроники на основе полупроводниковых, металлических и сверхпроводниковых слоев
27.12.2018
Цель: поиск новых методов формирования и анализа полупроводниковых микроструктур для миллиметрового и терагерцевого диапазонов, развитие технологии формирования пленок высокотемпературных сверхпроводников для новых приборов микроэлектроники, поиск новых устройств фотопреобразователей энергии солнечного света на основе органических тонкоплёночных структур, а также развитие методов оптического мониторинга. Проведено плазмохимическое травление арсенида галлия в индуктивно-связанной плазме хлорпентафторэтана, обеспечивающее пассивацию поверхности продуктами распада реагента. Исследованы характеристики детектирования корпусных детекторов на основе планарных низкобарьерных диодов Мотта Al/GaAs с приповерхностным δ-легированием. Разработана технология и изготовлены тонкопленочные полупрозрачные гетеропереходы фуллерен-C₆₀/йодид меди-CuI на гибких подложках и фотовольтаические ячейки на их основе. Предложен новый способ формирования структур на основе пленок ВТСП YBCO с использованием технологии «задающей маски» для роста. Разработана методика изготовления миниатюрного гибридного волоконно-оптического датчика температуры. Впервые получены методом МОГФЭ монокристаллические слои InN на подложках сапфира ориентации (11 - 20) с улучшенными структурными и оптическими свойствами. Предложен режим послойного анализа методом ВИМС на установке TOF.SIMS-5, позволяющий повысить разрешение по глубине при низкой энергии распыляющих ионов.
ГРНТИ
29.19.23 Теория электрических свойств твердых тел
29.19.22 Физика наноструктур. Низкоразмерные структуры. Мезоскопические структуры
29.19.29 Сверхпроводники
Ключевые слова
МЕТАЛЛООPГАНИЧЕСКАЯ ГАЗОФАЗНАЯ ЭПИТАКСИЯ
ГЕТЕРОСТРУКТУРА А3В5
СВЕРХПРОВОДНИК
ФОТОВОЛЬТАИЧЕСКИЕ ЯЧЕЙКИ
РЕНТГЕНОВСКАЯ ДИФРАКТОМЕТРИЯ
ВТОРИЧНО-ИОННАЯ МАСС-СПЕКТРОМЕТРИЯ
Детали
НИОКТР
№ 01201461135
Заказчик
Федеральное агентство научных организаций
Исполнитель
Институт физики микроструктур РАН – филиал Федерального государственного бюджетного научного учреждения «Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук»
Похожие документы
Развитие технологии формирования и исследование наноструктур и новых компонентов наноэлектроники на основе полупроводниковых, металлических и сверхпроводниковых слоев
0.980
ИКРБС
Развитие технологии формирования и исследование наноструктур и новых компонентов наноэлектроники на основе полупроводниковых, металлических и сверхпроводниковых слоев
0.973
ИКРБС
Развитие технологии формирования и исследование наноструктур и новых компонентов наноэлектроники на основе полупроводниковых, металлических и сверхпроводниковых слоев
0.958
ИКРБС
Развитие представлений о процессах синтеза и свойствах наноразмерных материалов и гетероструктур для электроники и фотоники.
0.948
ИКРБС
СОЗДАНИЕ И ИССЛЕДОВАНИЕ НОВЫХ ПЕРСПЕКТИВНЫХ МАТЕРИАЛОВ И СТРУКТУР ДЛЯ ЭЛЕМЕНТОВ ФУНКЦИОНАЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ И ОПТИЧЕСКИХ СИСТЕМ
0.948
ИКРБС
Создание и исследование новых перспективных материалов и структур для элементов функциональной электроники и оптических систем
0.942
ИКРБС
Физика низкоразмерных структур и полупроводниковых наноматериалов
0.941
ИКРБС
ФИЗИКА НИЗКОРАЗМЕРНЫХ СТРУКТУР И ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ НАНОМАТЕРИАЛОВ
0.941
ИКРБС
Развитие технологии и создания новых тонкопленочных материалов на базе широкозонных полупроводников и ферромагнитных материалов с полупроводниковой проводимостью для квантовых компьютеров
0.941
ИКРБС
Развитие представлений о процессах синтеза и свойствах наноразмерных материалов и гетероструктур для электроники и фотоники
0.941
ИКРБС