ИКРБС
№ АААА-Б19-219090490016-7

Формирование электронного пучка из одиночного эмиссионного канала форвакуумного плазменного источника

10.07.2019

Цель: комплексное исследование процессов генерации электронных пучков из одиночного эмиссионного канала плазменного источника в области повышенных давлений форвакуумного диапазона и поиск методов, позволяющих повысить плотность мощности электронного пучка. Проведены создание экспериментального оборудования, предназначенного для измерения параметров электронного пучка в форвакуумной области давлений, отработка методик измерения и экспериментальное исследование характера влияния на параметры электронного пучка геометрии эмиссионного канала и основных параметров электронного источника, функционирующего в области давлений 10 - 50 Па. На основании полученных результатов в зависимости от разрядного тока, ускоряющего напряжения и давления рабочего газа, определены оптимальные размеры эмиссионного канала, обеспечивающие максимальные удельные параметры электронного пучка. Начаты работы по исследованию влияния на процессы формирования электронного пучка распределения электрического поля ускоряющего промежутка. Достигнута плотность мощности электронного пучка, формируемого из одиночного эмиссионного канала, на уровне 10⁶ Вт/см².
ГРНТИ
29.27.23 Пучки в плазме
Ключевые слова
ЭЛЕКТРОННЫЙ ПУЧОК
ПЛАЗМЕННЫЙ КАТОД
ЭМИССИЯ ЭЛЕКТРОНОВ
ФОКУСИРОВКА
ПЛОТНОСТЬ МОЩНОСТИ ПУЧКА
ФОРВАКУУМНАЯ ОБЛАСТЬ ДАВЛЕНИЙ
Детали

Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "РОССИЙСКИЙ ФОНД ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ"
Исполнитель
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники"
Похожие документы
Формирование электронного пучка из одиночного эмиссионного канала форвакуумного плазменного источника
0.992
ИКРБС
Формирование электронного пучка из одиночного эмиссионного канала форвакуумного плазменного источника
0.952
НИОКТР
Особенности эмиссии электронов из плазмы и формирования элек-тронных пучков в области повышенных давлений форвакуумного диапазона для пучково-плазменной модификации материалов
0.939
ИКРБС
Генерация форвакуумным плазменным источником электронов сфокусированных непрерывных и импульсных электронных пучков для прецизионной обработки диэлектрических материалов. (Итоговый отчет)
0.933
ИКРБС
Формирование низкоэнергетичных широкоапертурных электронных пучков в плазмооптической системе с плазменным источником электронов
0.928
НИОКТР
ОСОБЕННОСТИ ЭМИССИИ ЭЛЕКТРОНОВ ИЗ ПЛАЗМЫ И ФОРМИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ В ОБЛАСТИ ПОВЫШЕННЫХ ДАВЛЕНИЙ ФОРВАКУУМНОГО ДИАПАЗОНА ДЛЯ ПУЧКОВО-ПЛАЗМЕННОЙ МОДИФИКАЦИИ МАТЕРИАЛОВ
0.926
ИКРБС
Формирование ионных потоков из электронно-пучковой плазмы для обработки поверхностей в форвакуумном диапазоне давлений
0.925
ИКРБС
Управление параметрами низкоэнергетических сильноточных электронных пучков, генерируемых в пушках со взрывоэмиссионным катодом
0.924
Диссертация
Генерация стационарных мощных низкоэнергетичных электронных пучков форвакуумными плазменными источниками для высокотемпературной электронно-лучевой обработки диэлектриков и других материалов
0.923
ИКРБС
Особенности эмиссии электронов из плазмы и формирования электронных пучков в области повышенных давлений форвакуумного диапазона для пучково-плазменной модификации материалов
0.922
НИОКТР