ФУНДАМЕНТАЛЬНЫЕ ОСНОВЫ ПЛАЗМЕННЫХ И МИКРОВОЛНОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ (промежуточный, этап № 1)

Проведено исследование плазменно-пылевых структур, низкотемпературной плазмы газового разряда, плазменных антенн, новых СВЧ-устройств, источника УФ-излучения, сверхсильных лазерных полей и их взаимодействия с веществом, плазменной обработки поверхности, использования низкотемпературной плазмы в биомедицине. Впервые построена диаграмма состояний плазменного кристалла; получены характеристики дрейфа ионов в смесях инертных газов и паров металлов; реализована лазерная полупроводниковая плазменная антенна; получена «безлинзовая» фокусировка ультрафиолетового излучения гармоник высокого порядка; предложен метод диагностики интенсивности лазерного излучения в фокусе петаваттных и мультипетаваттных лазерных систем. Получены спектроскопические характеристики дискретных и автоионизационных состояний иона In⁺; созданы коллоидные наноуглеродные покрытия с антимикробным действием. Использовано сфокусированное излучение гармоник в качестве затравки для рентгеновских лазеров. получены новый метод диагностики сверхмощных лазерных пучков, новый компактный СВЧ полосовой фильтр на основе резонатора Фабри-Перо. Использованы плазменный СВЧ факел для синтеза алмазных покрытий при атмосферном давлении, низкопороговые микроплазменные разряды для упрочнения поверхности металла. Результаты исследований можно применять в электродинамике, физике плазмы, физике лазерной плазмы, атомной спектроскопии в ВУФ и мягком рентгеновском диапазонах, СВЧ, радиотехнике, телекоммуникации, биомедицине, материаловедении.Выявлены новые физические факторы, влияющие на характеристики газовых разрядов, работу плазменных антенн, взаимодействие сверхсильных лазерных полей с веществом, создание рентгеновских лазеров, усиление и распространение СВЧ-сигналов.