Электронно-лучевое нанесение теплопроводящих керамических покрытий для устройств микроэлектроники. (промежуточный, второй год)

Проект посвящен исследованию процессов электронно-лучевого осаждения теплопроводящих керамических покрытий различного назначения для устройств микроэлектроники. Новизна подхода заключается в использовании для реализации целей проекта уникальных форвакуумных плазменных источников электронов, обеспечивающих возможность непосредственной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов. За отчетный период выполнены следующие работы: - Детально исследовано влияние параметров электронного пучка, давления и рода плазмообразующего газа на скорость нанесения, однородность покрытий, а так же на механические свойства полученных покрытий. - Показано, что при нагреве, плавлении и испарении керамики, на начальных этапах роста температуры керамического образца существует возможность управлять скоростью упомянутых процессов путем . - Исследовано влияния параметров электронного пучка и параметров пучковой плазмы на состав, теплопроводность и электроизоляционные параметры и свойства покрытий. Все запланированные в отчетном периоде исследования и работы выполнены полностью. По результатам работы отчетного периода опубликовано четыре статьи, из которых две статьи опубликованы в международном журнале первого квартиля и одна статья в журнале второго квартиля базы данных научного цитирования Web of Science, а также представлен один доклад на международном симпозиуме. Более подробно результаты исследований представлены в публикациях по проекту.