ИКРБС
№ 221052400085-1Функциональные материалы, наноматериалы и технологии по теме: Исследование процесса химического осаждения тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадия (заключительный)
20.12.2020
Данная работа направлена на исследование процесса получения тонких пленок диоксида ванадия методом химического осаждения из газовой фазы на реакторе с планетарным движением подложек и ионно-плазменным источником. Увеличение размеров реактора и переход к планетарному перемещению подложек требует определения оптимальных условий осаждения, а также выявление лучшего прекурсора для получения равномерных по толщине, фазовому составу и электрофизическим свойствам пленок.
ГРНТИ
31.17.29 Комплексные соединения
31.17.15 Неорганическая химия
Ключевые слова
химическое газофазное осаждение
тонкие пленки
диоксид ванадия
планетарный реактор
Детали
Заказчик
Общество с ограниченной ответственностью "ОКСИФИЛМ"
Исполнитель
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова"
Бюджет
Средства хозяйствующих субъектов: 200 000 ₽
Похожие документы
Исследование процесса химического осаждения тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадия
0.980
НИОКТР
Исследование методов получения образцов тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадия методом химического газофазного осаждения, анализ полученных образцов
0.946
НИОКТР
Функциональные материалы, наноматериалы и технологии
по теме:
Фундаментальные основы сольвотермального метода синтеза эпитаксиальных пленок диоксида ванадия с переходом диэлектрик-металл (заключительный)
0.941
ИКРБС
Разработка метода пирогидролитического осаждения диоксида ванадия из прекурсоров бета-дикетонатов ванадила
0.923
ИКРБС
Фундаментальные основы сольвотермального метода синтеза эпитаксиальных пленок диоксида ванадия с переходом диэлектрик-металл
0.916
НИОКТР
Способ получения тонких пленок диоксида ванадия, легированного вольфрамом
0.915
РИД
Создание технологии изготовления оптических материалов на основе диоксида ванадия размером до трёх дюймов
0.914
НИОКТР
Методы и технологии выращивания высококачественных пленок
0.914
НИОКТР
Разработка технологии изготовления материалов на основе диоксида ванадия размером до трех дюймов
0.912
ИКРБС
Доработка технологии осаждения пленок диоксида ванадия различной
плотности покрытия и толщины методом гидротермальной обработки и последующей
термообработки.
Исследование состава, структуры и свойств полученных покрытий VO2.
Анализ электрических и тестирование оптических свойств(в диапазоне ТГц излучения)
полученных покрытий.
Разработка оптимальной архитектуры одиночного неохлаждаемого элемента на основе
диоксида ванадия с помощью математического моделирования.
(промежуточный)
0.910
ИКРБС