ИКРБС
№ 223041400006-8Научные основы электронно-лучевой технологии создания многокомпонентных диэлектрических материалов и покрытий с использованием форвакуумных плазменных источников электронов
30.12.2021
Объектом исследования в рамках проекта являются электронно-лучевые и ионно- плазменные методы модификации диэлектрических материалов и покрытий. Целью работы является решение фундаментальной и актуальной научной проблемы создания многокомпонентных диэлектрических материалов и покрытий методами электронно- лучевого воздействия с использованием форвакуумных плазменных источников электронов. Основные направления исследований отчетного этапа 2021 года: - критический анализ современного состояния методов электронно-лучевой и ионно- плазменной модификации диэлектрических материалов и покрытий. Обоснование направлений и формулировка конкретных задач исследований с использованием форвакуумных плазменных источников электронов; - модернизация электронно-лучевого оборудования и отладка экспериментальной диагностики параметров плазмы, электронного пучка, а также выбор методов и подходов для экспресс-диагностики параметров и свойств модифицированных диэлектрических материалов и покрытий; - тестовые эксперименты по пучково-плазменному воздействию выбранных для исследования диэлектрических материалов и покрытий; - обобщение и анализ полученных результатов, подготовка публикаций и формулирование задач исследований следующего года За отчетный период по результатам проекта подано и зарегистрировано в системе ЕГИСУ НИОКРТ заявка на программу ЭВМ – № 2021668740 «Моделирование температурных полей по объему керамического образца с учетом влияния температуры на его теплофизические параметры». Заключен лицензионный договор со сторонней организацией о передаче неисключительного (исключительного) права на использование результатов интеллектуальной деятельности (правообладателем которых выступает ТУСУР): «Расчет диаметра электронного пучка по осциллограмме», договор №25/661 от 15 ноября 2021г., Общество с ограниченной ответственностью «Научно-производственная компания Томские электронные технологии». Запланированные в проекте работы по этапу 2021 года в полном объеме, установленные контрольные показатели достигнуты.
ГРНТИ
29.19.21 Влияние облучения на свойства твердых тел
29.27.51 Применение плазмы
Ключевые слова
ПАРАМЕТРЫ ПОКРЫТИЙ
ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ И ПОКРЫТИЯ
ДИЭЛЕКТРИКИ
ИОННО-ПЛАЗМЕННАЯ МОДИФИКАЦИЯ
ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ МОДИФИКАЦИЯ
Детали
НИОКТР
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ТОМСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ СИСТЕМ УПРАВЛЕНИЯ И РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ"
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ТОМСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ СИСТЕМ УПРАВЛЕНИЯ И РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ"
Бюджет
Собственные средства организаций: 350 000 ₽
Похожие документы
Научные основы электронно-лучевой технологии создания многокомпонентных диэлектрических материалов и покрытий с использованием форвакуумных плазменных источников электронов
0.963
ИКРБС
НАУЧНЫЕ ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТЕХНОЛОГИИ СОЗДАНИЯ МНОГОКОМПОНЕНТНЫХ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ И ПОКРЫТИЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ФОРВАКУУМНЫХ ПЛАЗМЕННЫХ ИСТОЧНИКОВ ЭЛЕКТРОНОВ
0.958
ИКРБС
ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ И ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ МОДИФИКАЦИИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ, А ТАКЖЕ СИНТЕЗА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ
0.938
ИКРБС
ФИЗИЧЕСКИЕ АСПЕКТЫ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО СИНТЕЗА И ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ МОДИФИКАЦИИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ И МАТЕРИАЛОВ В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ
0.938
ИКРБС
ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ И ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ МОДИФИКАЦИИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ, А ТАКЖЕ СИНТЕЗА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ
0.936
ИКРБС
Модификация конструкционных и биосовместимых диэлектрических материалов (керамика, полимеры, стекла) и синтез диэлектрических покрытий электронными пучками, генерируемыми в форвакуумной области давлений (отчет о НИР за 2017 год)
0.931
ИКРБС
Физические основы электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации диэлектрических материалов, а также синтеза диэлектрических покрытий в форвакуумной области давлений
0.928
ИКРБС
Вклад вторичной электронной эмиссии в процессы электронно-лучевой модификации диэлектрических материалов с использованием форвакуумных плазменных источников электронов.
0.924
ИКРБС
Локальное ионно-плазменное травление диэлектриков, инициируемое и контролируемое электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений (итоговый)
0.920
ИКРБС
Разработка основ технологии электронно-лучевого синтеза металлокерамических материалов в форвакуумной области давлений
0.920
ИКРБС