ИКРБС
№ 223021500096-0

Гетероструктуры на основе материалов A3B5 для радиофотоники, СВЧ-электроники и фотоэлектроники

27.01.2023

Объектом исследования является технология молекулярно-лучевой эпитаксии. Цель проекта – разработка технологии получения и исследование свойств новых гетероэпитаксиальных структур (ГЭС) для СВЧ-электроники, фотоэлектроники и радиофотоники. Целью проекта в 2022 году являлась разработка технологии молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) AlGaAs/InGaAs/GaAs для создания субтерагерцовых мощных DA-pHEMT транзисторов, AlN/GaN ГЭС для СВЧ и силовых транзисторов и исследование процессов в эпитаксии InAlAs/InGaAs/InP ГЭС для приборов радиофотоники. В процессе работы проводились экспериментальные исследования механизмов роста, а также структурных, транспортных и оптических свойств ГЭС, рассчитывалась энергетическая структура, концентрация точечных дефектов, транспортные и оптические свойства ГЭС, разрабатывались новые методик контроля параметров ГЭС. Результаты исследований могут быть применены для развития и изготовления гетероструктур, используемых при разработке и выпуске приборов СВЧ электроники, СВЧ фотоэлектроники, задач радиофотоники и ИК техники. Важнейшими результатами проекта являются: (1) разработка технологии синтеза ГЭС InGaAlAs/InAlAs для электро-абсорбционного модулятора с коэффициентом экстинкции, не превышающем по абсолютной величине -20 дБ (при напряжении 4 В и длине 1 мм), что обеспечивает малые пассивные оптические потери и технологическую простоту монтажа чипа и стыковки с оптоволокном; (2) Разработаны и оптимизированы ГЭС AlGaAs/InGaAs/GaAs с односторонним delta-легированием для ключевых pHEMT-транзисторов и на их основе были изготовлены монолитные интегральные схемы переключателей с параметрами, в целом не уступающими параметрам аналогов, изготовленных на основе более сложных гетероструктур с двухсторонним легированием. изготовлены интегральные схемы двухпозиционных pHEMT-переключателей с длиной и шириной затвора 0.5 и 100 мкм соответственно. Сопротивление транзисторов в открытом состоянии равнялось Ron = 1.0 Ом·мм, а проходная емкость в закрытом состоянии Coff = 0.37 пФ/мм. Максимальная крутизна транзистора равнялась 400 мСм/мм, максимальная величина тока насыщения составляла 380 мА/мм, напряжение отсечки Uth > −1.3 В. Частотный диапазон двухпозиционных переключателей составлял 0−20 ГГц, вносимые потери в этом частотном диапазоне по абсолютной величине не превышали 2.2 дБB, а максимальное значение возвратных потерь по абсолютной величине составило 11.7 дБ. Потери запирания по абсолютной величине были не менее 56 дБ, верхняя граница линейности по входу при компрессии коэффициента передачи на 1 дБ — не менее 21 дБм, точка пересечения интермодуляционных составляющих третьего порядка по входу — не менее 40 дБм.
ГРНТИ
29.19.31 Полупроводники
29.19.22 Физика наноструктур. Низкоразмерные структуры. Мезоскопические структуры
Ключевые слова
ФОТОПРИЕМНИКИ
ТРАНЗИСТОРЫ
ГЕТЕРОСТРУКТУРЫ
МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВАЯ ЭПИТАКСИЯ
Детали

НИОКТР
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ НАУКИ ИНСТИТУТ ФИЗИКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ ИМ. А.В. РЖАНОВА СИБИРСКОГО ОТДЕЛЕНИЯ РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК
Бюджет
Средства федерального бюджета: 23 760 299 ₽
Похожие документы
Гетероструктуры на основе материалов A3B5 для радиофотоники, СВЧ-электроники и фотоэлектроники
0.989
ИКРБС
Гетероструктуры на основе материалов A3B5 для радиофотоники, СВЧ-электроники и фотоэлектроники
0.985
ИКРБС
Гетероструктуры на основе материалов A3B5 для радиофотоники, СВЧ-электроники и фотоэлектроники
0.984
ИКРБС
Гетероструктуры на основе материалов А3В5 для СВЧ-электроники и СВЧ-фотоэлектроники
0.973
ИКРБС
Физико-технологические основы создания фотоприемных устройств на основе полупроводников A3B5
0.941
ИКРБС
Гетероструктуры на основе материалов А3В5 для СВЧ-электроники и СВЧ-фотоэлектроники
0.940
НИОКТР
Гетероструктуры на основе материалов А3В5 для СВЧ-электроники и СВЧ-фотоэлектроники
0.940
ИКРБС
Разработка научных основ эпитаксии наногетероструктур AIIIBV для нового поколения ИК-фотоприемных устройств, в том числе и на подложках кремния
0.935
ИКРБС
Теоретическое и экспериментальное исследование физико- технологических подходов к созданию оптических сенсоров и излучателей для ИК, СВЧ и ТГц спектральных диапазонов на основе полупроводниковых материалов А3В5 (промежуточный, этап 1)
0.935
ИКРБС
Определение оптимальных параметров роста и толщин слоев сверхрешеточных гетероструктур InGaAs/InAlAs; Изготовление сверхрешеточных гетероструктур InGaAs/InAlAs на подложках GaAs с применением технологии эпитаксиального роста с формированием метаморфного буферного слоя; Оптимизация геометрии периодичных металлических (плазмонных) наноструктур для ФПА; Изготовление плазмонных ФПА по оригинальной технологии с двумя пассивирующими диэлектрическими слоями, на основе сверхрешеточных гетероструктур InGaAs/InAlAs.
0.934
ИКРБС