ИКРБС
№ 223081800004-6

Доработка технологии осаждения пленок диоксида ванадия различной плотности покрытия и толщины методом гидротермальной обработки и последующей термообработки. Исследование состава, структуры и свойств полученных покрытий VO2. Анализ электрических и тестирование оптических свойств(в диапазоне ТГц излучения) полученных покрытий. Разработка оптимальной архитектуры одиночного неохлаждаемого элемента на основе диоксида ванадия с помощью математического моделирования. (промежуточный)

16.08.2023

Отчет 47 с., 1 кн., 18 рис., 2 источника, 1 прил. Ключевые слова: микроэлектроника, тгц-визуализация, тгц, ик, микроболометр, диоксид ванадия, покрытия и тонкие пленки Цель работы: Доработка технологии осаждения пленок диоксида ванадия различной плотности покрытия и толщины методом гидротермальной обработки и последующей термообработки. Исследование состава, структуры и свойств полученных покрытий VO2. Анализ электрических и тестирование оптических свойств (в диапазоне ТГц-излучения) полученных покрытий. Разработка оптимальной архитектуры одиночного неохлаждаемого элемента на основе диоксида ванадия с помощью математического моделирования. В ходе 1 этапа проекта доработана технология осаждения пленок диоксида ванадия различной плотности покрытия и толщины методом гидротермальной обработки и последующей термообработки. Применены современные методы гидротермальной обработки, показаны возможности масштабирования технологии для получения оксидных покрытий различных толщин. Исследованы состав, структур и свойства полученных покрытий VO2. Проведены анализ электрических и тестирование оптических свойств (в диапазоне ТГц излучения) полученных покрытий. Температура перехода чувствительного слоя может быть контролируемо подстроена в рамках диапазона 30-70 С. Материал чувствителен в волнам ТГц диапазона (85–3000 мкм). Общее изменение интегральной интенсивности ТГц-сигнала в случае пленок VO2 на С-сапфире составило около 20 раз, что является весьма высоким показателем и дает возможность использовать разрабатываемый подход к изготовлению чувствительных оптических элементов для работы в ТГц-диапазоне. Разработана оптимальная архитектура одиночного неохлаждаемого элемента на основе диоксида ванадия с помощью математического моделирования. Показано, что болометр на основе диоксида ванадия с характеристиками материала, полученного по технологии, доработанной в рамках этапа, может эксплуатироваться без дополнительного охлаждения при рабочих температурах в районе комнатных. Все заявленные задачи этапа выполнены в полном объеме и полностью соответствуют техническому заданию и календарному плану
ГРНТИ
29.19.16 Физика тонких пленок. Поверхности и границы раздела
29.31.27 Взаимодействие оптического излучения с веществом
31.15.19 Химия твердого тела
61.31.51 Остальные элементы, оксиды, минеральные кислоты, основания, соли
Ключевые слова
ДИОКСИД ВАНАДИЯ
ПОКРЫТИЯ И ТОНКИЕ ПЛЕНКИ
МИКРОБОЛОМЕТР
ИК
ТГЦ
ТГЦ-ВИЗУАЛИЗАЦИЯ
МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
Детали

НИОКТР
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "ФОНД СОДЕЙСТВИЯ РАЗВИТИЮ МАЛЫХ ФОРМ ПРЕДПРИЯТИЙ В НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКОЙ СФЕРЕ"
Исполнитель
ОБЩЕСТВО С ОГРАНИЧЕННОЙ ОТВЕТСТВЕННОСТЬЮ "УГО"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 2 000 000 ₽
Похожие документы
Разработка и тестирование опытного образца одиночного неохлаждаемого детектора для ТГц-визуализации (заключительный)
0.947
ИКРБС
Исследование влияния материала подложки на структуру функциональных тонких пленок диоксида ванадия, полученных при помощи реактивного магнетронного распыления для применения в современных ИК-датчиках и СВЧ-переключателях
0.942
ИКРБС
Разработка технологии изготовления материалов на основе диоксида ванадия размером до трех дюймов
0.933
ИКРБС
Разработка ионно-плазменной технологии получения пленок диоксида ванадия на СВЧ подложках с параметрами пленок, удовлетворяющим требованиям эффективного переключения между фазовыми состояниями. Проведение технологических процессов ионно-плазменного нанесения пленок титаната бария на диэлектрические СВЧ подложки в атмосфере смеси аргона и кислорода. Проведение технологических процессов ионно-плазменного нанесения пленок оксида ванадия на диэлектрические СВЧ подложки в атмосфере смеси аргона и кислорода с подавлением роста пленок оксидов высшего состава. Анализ состава (стехиометрии) и структуры полученных пленок. Измерения СВЧ электродинамических параметров пленочных структур. Моделирование и разработка конструкции вариконда на основе многослойных гетероструктур.
0.931
ИКРБС
Исследование влияния материала подложки на структуру функциональных тонких пленок диоксида ванадия, полученных при помощи реактивного магнетронного распыления для применения в современных ИК-датчиках и СВЧ-переключателях
0.925
ИКРБС
Методы и технологии выращивания высококачественных пленок
0.921
НИОКТР
Функциональные материалы, наноматериалы и технологии по теме: Фундаментальные основы сольвотермального метода синтеза эпитаксиальных пленок диоксида ванадия с переходом диэлектрик-металл (заключительный)
0.918
ИКРБС
Тонкопленочные структуры сложных оксидов для перспективных приложений электроники
0.916
ИКРБС
Разработка технологических процессов, разработка конструкции, изготовление и испытания экспериментального образца СВЧ вариконда на основе многослойных тонкопленочных структур с оксидом ванадия
0.910
ИКРБС
Функциональные материалы, наноматериалы и технологии по теме: Исследование процесса химического осаждения тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадия (заключительный)
0.910
ИКРБС