ИКРБС
№ 223092500014-4

«Разработка теплового МЭМС-сенсора с повышенным быстродействием по сравнению с представленными на рынке болометрическими и термопарными сенсорными элементами, чувствительными к ИК излучению.» (договор 29ГТС1РЭС14/72115 от 24.12.2021) Этап №3 (заключительный)

15.08.2023

Отчет представлен на 244 страницах. Отчет содержит 156 рисунков, 31 таблицу, 19 приложений и 22 источника. Отчет состоит из реферата, введения, основной части (разделы 1-9), заключения и 19 приложений. Перечень ключевых слов: ИК-фотоприемник; МЭМС-технология; композитная диэлектрическая мембрана; динамический эффект Зеебека; электромеханическая деформация; переключаемые термопары. Цель выполнения НИОКР – разработать тепловой МЭМС-сенсор с повышенным быстродействием по сравнению с представленными на рынке болометрическими и термопарными сенсорными элементами, чувствительными к ИК излучению. Области применения продукции: - Теплопеленгационная аппаратура, предназначенная для регистрации высокоскоростных объектов. - Тепловизоры с низкой инерционностью, обеспечивающей воспроизведение быстроизменяющейся тепловой сцены. В рамках этапа 3 НИОКР были достигнуты следующие результаты: 1. Доработаны методики проведения измерений экспериментального образца сенсора. 2. Выполнен монтаж экспериментальных образцов в корпуса. 3. Проведены измерения параметров экспериментальных образцов МЭМС-сенсора с расширенными функциональными возможностями. 4. Верифицированы результаты моделирования сенсора. 5. Разработана и изготовлена оснастка для испытаний экспериментального образца сенсора. 6. Проведены испытания экспериментального образца сенсора. 7. Разработан проект ТЗ на выполнение ОКР по разработке опытного образца сенсора. В целом по НИОКР были достигнуты следующие результаты: 1. Проведен анализ соотношений между требуемыми функциональными параметрами сенсора и конфигурацией чувствительных элементов (подвешенная мембрана, теплопроводные консоли, поглощающий ИК-излучение слой, термоэлектрический элемент); 2. Разработана топология полупроводникового кристалла и его тестовых элементов; 3. Проведено моделирование конструкции сенсора в статическом состоянии; 4. Осуществлен выбор и обоснование основного материала – типоразмеров структур КНИ (SOI) и корпусов для изготовления экспериментальных образцов; 5. Осуществлен выбор и обоснование основного материала – комплектующих изделий для изготовления экспериментальных образцов; 6. Разработан технологический маршрут изготовления экспериментального образца изделия; 7. Разработана и изготовлена оснастка для изготовления экспериментальных образцов; 8. Разработана и изготовлена оснастка для измерения экспериментальных образцов; 9. Изготовлен комплект фотошаблонов; 10. Отработана сборка прототипа полупроводникового кристалла в корпус; 11. Отработаны новые технологические процессы изготовления тестовых элементов полупроводникового кристалла на пластинах и КНИ-структурах; 12. Проведено исследование и анализ тестовых элементов методами электронно-растровой микроскопии. 13. Проведена корректировка топологии экспериментального образца изделия на основе отработки новых технологических процессов. 14. Проведено моделирование сенсора в динамических процессах его работы. 15. Изготовлены скорректированные слои комплекта фотошаблонов в соответствии с коррекцией топологии экспериментального образца сенсора. 16. Изготовлены полупроводниковые кристаллы экспериментального образца сенсора на КНИ-структурах по результатам корректировки топологии и технологических режимов. 17. Проведено исследование и анализ образцов методами электронно-растровой микроскопии. 18. Проведена сборка прототипов полупроводникового кристалла в корпуса. 19. Проведена компоновка стенда для измерения параметров сенсора. 20. Проведены предварительные измерения экспериментального образца сенсора. 21. Проведена отработка методик измерения параметров сенсора. 22. Доработаны методики проведения измерений экспериментального образца сенсора. 23. Выполнен монтаж экспериментальных образцов в корпуса. 24. Проведены измерения параметров экспериментальных образцов МЭМС-сенсора с расширенными функциональными возможностями. 25. Верифицированы результаты моделирования сенсора. 26. Разработана и изготовлена оснастка для испытаний экспериментального образца сенсора. 27. Проведены испытания экспериментального образца сенсора. 28. Разработан проект ТЗ на выполнение ОКР по разработке опытного образца сенсора. Работы по НИОКР выполнены успешно и в полном объеме.
ГРНТИ
47.59.99 Прочие элементы радиоэлектронной аппаратуры
Ключевые слова
ИК-фотоприемник
МЭМС-технология
Композитная диэлектрическая мембрана
Динамический эффект Зеебека
Электромеханическая деформация
Переключаемые термопары
Детали

НИОКТР
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "ФОНД СОДЕЙСТВИЯ РАЗВИТИЮ МАЛЫХ ФОРМ ПРЕДПРИЯТИЙ В НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКОЙ СФЕРЕ"
Исполнитель
ОБЩЕСТВО С ОГРАНИЧЕННОЙ ОТВЕТСТВЕННОСТЬЮ "ЛИВ МОС ИНЖИНИРИНГ"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 4 500 000 ₽
Похожие документы
"Анализ соотношений между требуемыми функциональными параметрами сенсора и конфигурацией чувствительных элементов (подвешенная мембрана, теплопроводные консоли, поглощающий ИК-излучение слой, термоэлектрический элемент). Разработка топологии полупроводникового кристалла и его тестовых элементов. Моделирование конструкции сенсора в статическом состоянии. Выбор и обоснование основного материала – типоразмеров структур КНИ (SOI) и корпусов для изготовления экспериментальных образцов. Выбор и обоснование основного материала – комплектующих изделий для изготовления экспериментальных образцов. Разработка технологического маршрута изготовления экспериментального образца изделия. Разработка и изготовление оснастки для изготовления экспериментальных образцов. Разработка и изготовление оснастки для измерения экспериментальных образцов. Изготовление комплекта фотошаблонов. Отработка сборки прототипа полупроводникового кристалла в корпус. Отработка новых технологических процессов изготовления тестовых элементов полупроводникового кристалла на пластинах и КНИ-структурах. Исследование и анализ тестовых элементов методами электронно-растровой микроскопии." (договор 29ГТС1РЭС14/72115 от 24.12.2021) (промежуточный)
0.971
ИКРБС
"Корректировка топологии экспериментального образца изделия на основе отработки новых технологических процессов. Моделирование сенсора в динамических процессах его работы. Изготовление скорректированных слоев комплекта фотошаблонов в соответствии с коррекцией топологии экспериментального образца сенсора. Изготовление полупроводниковых кристаллов экспериментального образца сенсора на КНИ-структурах по результатам корректировки топологии и технологических режимов. Исследование и анализ образцов методами электронно-растровой микроскопии. Сборка прототипов полупроводникового кристалла в корпуса. Компоновка стенда для измерения параметров сенсора. Предварительные измерения экспериментального образца сенсора. Отработка методик измерения параметров сенсора." (договор 29ГТС1РЭС14/72115 от 24.12.2021) (промежуточный)
0.964
ИКРБС
«Разработка, изготовление и проведение испытаний экспериментального образца микросистемы наноразмерной переключаемой термопары для приемника ИК-диапазона на основе динамического эффекта Зеебека» (договор №3ГТС1/48805 от 25.07.2019) (заключительный)
0.928
ИКРБС
«Разработка макетного образца интеллектуального параметрического датчика физических величин на основе тензоэффекта.» (договор №4778ГС1/80282 от 15.11.2022) (заключительный)
0.926
ИКРБС
Разработка высокочувствительного МЭМС-детектора по теплопроводности для газовой хроматографии
0.924
ИКРБС
Фундаментальные основы создания многорежимных тепловизионных сенсоров, реализующих методы комплексирования информации, для автономных технических комплексов
0.922
ИКРБС
Разработка топологии. Разработка эскизной КД. Разработка технологического маршрута изготовления экспериментального образца микросистемы. Изготовление комплекта фотошаблонов. Отработка новых технологических процессов.
0.921
ИКРБС
2.1 Проектирование трехкамерного металло-керамического корпуса. 2.2 Изготовление образцов трехкамерного металло-керамического корпуса. 2.3 Проектирование модуля измерения и управления МЭМС-датчиком. 2.4 Отработка технологического процесса получения тонкопленочных терморезисторов в рамках технологического маршрута изготовления кристалла MEMS-датчика вакуума. 2.5 Отработка технологического процесса получения тонкой диэлектрической мембраны с низкой теплопроводностью в рамках технологического маршрута изготовления кристалла MEMS-датчика вакуума.
0.920
ИКРБС
Экспериментальные исследования поставленных перед ПНИ задач. Обобщение и оценка результатов ПНИ
0.920
ИКРБС
«Разработка компонентных составов, методов нанесения и анализ тонкопленочных покрытий для функциональных и буферных слоев фотодиодов.» (договор №37ГТС1РЭС14/72107 от 25.12.2021) (заключительный)
0.917
ИКРБС