ИКРБС
№ 224020500011-5Эпитаксиальное выращивание гетероструктур нового типа на основе соединений А2В6 и создание на их основе полупроводникового дискового лазера, излучающего на основной частоте в сине-зеленом диапазоне спектра
01.09.2022
За отчетный период проведены следующие исследования. Проведены расчеты спектров излучения и материального оптического усиления гетероструктуры с квантовыми ямами ZnSSe/ZnSe/CdS/ZnSe/ZnSSe в зависимости от уровня накачки и температуры структуры. Показано, что материальный коэффициент усиления при комнатной температуре может превышать 5000 см-1 при реальных уровнях накачки, что позволяет реализовать лазер в добротном резонаторе с достаточно высокой эффективностью. Выращены несколько гетероструктур при различных соотношениях потоков металлоорганических соединений. Обнаружено, что взаимная диффузия атомов Cd и Zn, приводившая к расплыванию квантовых ям в процессе роста, существенно подавляется при выращивании слоев ZnSe и CdS в условиях небольшого избытка металла. Выращены гетероструктуры с 8 - 10 одинаковыми квантовыми ямами с высокой интенсивностью катодолюминесценции. Из выращенных гетероструктур по разработанной ранее технологии изготовлены микрорезонаторы для продольной накачки лазерным диодом на основе гетероструктуры InGaN/GaN с длиной волны излучения 440 нм. Получена генерация с длиной волны равной 508 нм на одной гетероструктуре и 525 нм – на другой гетероструктуре. Получена импульсная мощность 0.33 Вт при дифференциальной эффективности 10 %. Анализ полученных экспериментальных данных показал, что оцениваемый коэффициент материального усиления должен быть примерно 5000 см-1, что соответствует результатам выполненных расчетов. Исследован импульсный полупроводниковый дисковый лазер на структуре AlxGa1–xAs/AlyGa1–yAs с резонансно периодическим усилением и встроенным брэгговским зеркалом, излучающий на длине волны вблизи 780 нм. Приведены характеристики лазера как при накачке электронным пучком, так и при оптической накачке излучением лазерного диода с длиной волны 450 нм. В случае накачки электронным пучком достигнута пиковая мощность 4.4 Вт при дифференциальном КПД свыше 10%, тогда как при оптической накачке мощность составила 0.2 Вт при дифференциальном КПД 2.2% и примерно одинаковых параметрах резонатора. Падение КПД лазера при оптической накачки объясняется особенностью зонной структуры и большим коэффициентом поглощением накачки, что приводит к сильно неоднородному поглощению накачки по глубине гетероструктуры. Реализован и исследован полупроводниковый дисковый лазер, излучающей на длине волны 1064 нм, со средней мощностью до 0.4 Вт, при импульсно-периодической накачке лазерными диодами, со скважностью 1:10. Реализовано внутрирезонаторное удвоение частоты с импульсной мощностью до 0.1 Вт.
ГРНТИ
29.31.21 Оптика твердых тел
29.19.22 Физика наноструктур. Низкоразмерные структуры. Мезоскопические структуры
29.19.16 Физика тонких пленок. Поверхности и границы раздела
29.33.15 Оптические квантовые генераторы и усилители (лазеры)
Ключевые слова
сине-зеленая область спектра
эпитаксия из металлоорганических соединений
соединения А2В6
оптическая и электронная накачка
гетероструктура второго типа
полупроводниковый дисковый лазер
Детали
НИОКТР
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "РОССИЙСКИЙ ФОНД ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ"
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЯДЕРНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ "МИФИ"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 1 200 000 ₽
Похожие документы
Эпитаксиальное выращивание гетероструктур нового типа на основе соединений А2В6 и создание на их основе полупроводникового дискового лазера, излучающего на основной частоте в сине-зеленом диапазоне спектра
0.970
ИКРБС
Эпитаксия низкоразмерных гетероструктур соединений А2В6 и создание полупроводниковых дисковых лазеров на их основе
0.949
Диссертация
Эпитаксиальное выращивание гетероструктур нового типа на основе соединений А2В6 и создание на их основе полупроводникового дискового лазера, излучающего на основной частоте в сине-зеленом диапазоне спектра
0.947
НИОКТР
Физические основы синтеза напряженных гетероструктур А3В5 и светоизлучающие приборы с предельными параметрами
0.941
ИКРБС
Полупроводниковые гетероструктуры A3B5, полученные методами молекулярно-пучковой эпитаксии и спекания, и лазеры спектрального диапазона 1300 – 1550 нм на их основе
0.937
Диссертация
ВЫРАЩИВАНИЕ И ИССЛЕДОВАНИЕ ЛАЗЕРНЫХ СТРУКТУР С МНОГОСЛОЙНЫМИ КВАНТОВЫМИ ТОЧКАМИ In(Ga)As/GaAsНА ПОДЛОЖКАХ Ge/Si
0.932
ИКРБС
ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ СИНТЕЗА НАПРЯЖЕННЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУР А3В5 И СВЕТОИЗЛУЧАЮЩИЕ ПРИБОРЫ С ПРЕДЕЛЬНЫМИ ПАРАМЕТРАМИ
0.931
ИКРБС
ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ НАНОГЕТЕРОСТРУКТУРЫ А3В5 И ПРИБОРЫ НАНОФОТОНИКИ И НАНОЭЛЕКТРОНИКИ НА ИХ ОСНОВЕ
(промежуточный)
0.930
ИКРБС
Гетероструктуры на основе материалов А3В5 для СВЧ-электроники и СВЧ-фотоэлектроники
0.930
ИКРБС
Гетероструктуры на основе материалов А3В5 для СВЧ-электроники и СВЧ-фотоэлектроники
0.928
ИКРБС