Разработка базовых маршрутов проектирования и изготовления фотошаблонов для производства полупроводниковых изделий с проектными нормами 90-65 нм

Объектом исследования является разработка базовых маршрутов проектирования и изготовления фотошаблонов, определение перечня и технических требований к технологическому оборудованию и материалам для изготовления комплектов фотошаблонов разных групп сложности (стандартных бинарных, сложных бинарных с элементами коррекции эффектов оптической близости и полутоновых фазосдвигающих фотошаблонов) для производства ИС с проектными нормами до 90-65 нм. Целью работы является формирование базовых технических требований для изготовления фотошаблонов для производства полупроводниковых изделий с проектными нормами до 65 нм, разработка базовых маршрутов проектирования и изготовления фотошаблонов, определение перечня и требований к техническим характеристикам необходимого технологического оборудования для изготовления фотошаблонов для производства полупроводниковых изделий с проектными нормами до 65 нм в рамках проекта создания научно-технологического центра по изготовлению фотошаблонов с проектными нормами 90-65 нм на базе НИУ МИЭТ. В рамках выполнения НИР получены следующие результаты: 1) отчет о патентных исследованиях; 2) определен перечень технических требований к комплектам фотошаблонов для производства интегральных схем с проектными нормами 90-65 нм; 3) описаны этапы разработки базового маршрута проектирования и изготовления фотошаблонов, включая стандартные бинарные, сложные бинарные с элементами коррекции эффектов оптической близости, полутоновые фазосдвигающие фотошаблоны; 4) определен состав и технические требования к оборудованию для процессов изготовления фотошаблонов. Перечень материалов, процессных и технологических газов, используемых в технологических операциях при изготовлении фотошаблонов. 5) подготовлен проект ТЗ на ОКР по разработке технологического процесса изготовления фотошаблонов для производства полупроводниковых изделий с проектными нормами 90-65 нм на базе НИУ МИЭТ. Результаты работы полученные при выполнении НИР будут использованы в ОКР и последующих НИР связанные с данной тематикой.