Разработка новых технологических подходов к формированию пленочных структур на основе твердых растворов кремний/германий

Объектом исследования являются наночастицы, нанонити полупроводников и металлов, тонкие плёнки. Цель работы состоит в разработке нового подхода к формированию плёночных структур на основе твёрдых растворов кремний/германий. В ходе выполнения НИР были получены сплавы SiхGe1-х на подложках КДБ 12, КЭФ 20, КДБ 0,01 и КЭС 0,01 с целью получения сплава с разным типом проводимости и уровнем легирования. Получены закономерности влияния геометрии пористой матрицы кремния и параметров процесса осаждения Me (Co, Ni, Cr) на степень заполнения металлом нанопор матрицы кремния. Разработана методика электрохимического осаждения металлов в каналы пор ПК и последующей термообработки для формирования силицидов и сплавов кремний-германий с их содержанием. Исследованы закономерности изменения химического и фазового состава в процессе термической обработки композитов, особенности процессов тепло- и токопереноса в легированных и модифицированных пленочных структурах твердого раствора SiхGe1-х. Охарактеризованы структурные параметры и определены режимы формирования жертвенных слоев, формируемых в различных режимах электрохимической или химической обработки. Областью применения является индустрия наносистем. Проводимые в рамках проекта исследования позволят создавать пленочные структуры на основе твердых растворов SiхGe1-х с заданным составом более технологичным способом при меньших затратах по сравнению с существующими методами получения.