ИКРБС
№ 224071600022-2Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
27.01.2020
Объектами исследования являются процессы выращивания бездефектных поликристаллических и монокристаллических пластин CVD алмаза толщиной более 1 мм в плазме, создаваемой микроволновым излучением на частоте 2.45 ГГц.
Цели работы – исследование условий синтеза бездефектных поликристаллических алмазных пленок и пластин на кремниевых подложках диаметром 75-80 мм, исследование процессов выращивания монокристаллических пластин CVD алмаза, обеспечивающих при минимальном присутствии азота (менее 200 pbb) в реакторе максимально возможную скорость роста и в тоже время минимальное количество дефектов в алмазе, а также разработка фотодетектора ближнего инфракрасного и видимого диапазонов длин волн на основе бездефектных пластин CVD алмаза.
В ходе выполнения работы были получены следующие результаты.
Проведены экспериментальные исследования условий CVD синтеза толстых (более 1 мм) поликристаллических алмазных пленок на подложки диаметром 80 мм. Определено, что скорость роста высококачественного поликристаллического алмаза достигала 2-3 мкм/час, а ширина пика алмаза в спектре комбинационного рассеяния (характеризующего качество выращенного алмаза) составляла 2-3 см-1.
Проведены исследования условий синтеза монокристаллических пластин CVD алмаза толщиной более 1 мм. Найдены условия синтеза CVD алмаза, обеспечивающие максимально возможную скорость роста и в тоже время минимальное количество дефектов в алмазе, при минимальном присутствии азота (менее 200 pbb) в газовой смеси реактора. В найденных условиях получены бездефектные монокристаллические пластины CVD алмаза толщиной 1 - 1.1 мм, выращиваемые с относительно высокой скоростью роста в диапазоне 7-12 микрон в час.
Создан фотодетектор ближнего инфракрасного и видимого диапазонов длин волн на основе бездефектных пластин CVD алмаза. Принцип его работы позволил получить быстродействие 200 нс для видимого лазерного излучения с длиной волны 532 нм при постоянном обратном смещении 2.5 В.
ГРНТИ
29.27.43 Газовый разряд
29.27.51 Применение плазмы
Ключевые слова
АЛМАЗНЫЙ ФОТОДЕТЕКТОР
МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ АЛМАЗ
ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКИЕ АЛМАЗНЫЕ ПЛЕНКИ
СВЧ РАЗРЯД
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР
ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
Детали
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ НАУЧНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "ФЕДЕРАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЦЕНТР ИНСТИТУТ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ ИМ. А.В. ГАПОНОВА-ГРЕХОВА РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК"
Бюджет
Средства федерального бюджета: 8 178 470 ₽
Похожие документы
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
1.000
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.964
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.964
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.955
ИКРБС
Разработка технологии синтеза и структурирования алмазных пленок для создания функциональзированных слоев, элементов, приборных структур.
0.951
ИКРБС
Разработка технологии синтеза и структурирования алмазных и алмазоподобных пленок для создания функционализированных слоёв, элементов, приборных структур
0.950
ИКРБС
Синтез новых неорганических материалов с использованием плазмы
0.950
ИКРБС
Разработка технологических процессов получения и обработки поликристаллических алмазных пластин
0.949
ИКРБС
Разработка технологии синтеза и структурирования алмазных и алмазоподобных пленок для создания функционализированных слоёв, элементов, приборных структур
0.949
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.948
ИКРБС