РАЗРАБОТКА КОНЦЕПЦИИ ИСТОЧНИКА УФ ИЗЛУЧЕНИЯ НА ОСНОВЕ ВЧ РАЗРЯДА НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ И СПОСОБОВ ЕГО ИСПОЛЬЗОВАНИЯ КАК ИСТОЧНИКА ВНЕШНИХ ВОЗДЕЙСТВИЙ НА ПЛАЗМЕННО-ПЫЛЕВЫЕ ОБРАЗОВАНИЯ

Обсуждается использование ВЧ разряд низкого давления как источника вакуумного ультрафиолетового излучения для воздействия на пылевые образования. Предложенная концепция экспериментального стенда для исследования пылевой плазмы субмикронного размера на основе ВЧ разряда также учитывает возможность использования ВЧ разряда как источника вакуумного ультрафиолетового излучения. Основой создаваемого экспериментального комплекса будет является вакуумная камера, состоящая из двух частей: разрядная камера и камера внешних воздействий. Плазма будет создаваться в кварцевой разрядной камере с помощью непрерывного высокочастотного разряда. В камере внешних воздействий будет исследоваться взаимодействие частиц пыли с различными внешними факторами (потоки заряженных частиц и плазмы, УФ излучение, электрические и магнитные поля). Регистрация динамики плазменно-пылевых образований будет осуществляться с помощью разрабатываемых зондовых методов диагностики параметров плазмы и высокоскоростной фото и видео съемки, в том числе с помощью метода «лазерного ножа».