ИКРБС
№ 225020608993-4Синтез новых неорганических материалов с использованием плазмы
28.12.2024
Объектами исследования являются монокристаллические слои как легированного, так и нелегированного CVD-алмаза, полученные методом химического осаждения из газовой фазы в плазме СВЧ-разряда; квазиклассическая теория тонких дельта-легированных слоев CVD-алмаза.
Основными задачами данной работы в 2024 году являлись следующие.
Исследование выращивания нелегированных и легированных бором эпитаксиальных слоев и исследование дефектов роста в них в зависимости от условий синтеза CVD-алмаза. Определение поверхностной плотности дислокаций в алмазе. Разработка квазиклассической теории тонких дельта-легированных слоёв алмаза.
В ходе выполнения работы были получены следующие результаты.
Проведено исследование дефектов нелегированных эпитаксиальных слоев, выращиваемых из газовой фазы в плазме СВЧ разряда при минимальном присутствии азота (менее 200 pbb) в CVD реакторе. Установлено, что получение слоёв CVD алмаза с плотностью дислокаций меньшей, чем в исходной подложке, возможно при сочетании высоких удельных энерговкладов в плазму и низких давлений газовой смеси Н2-СН4. Установлено, что в этих условиях добавление кислорода в газовую смесь (в количестве десятых долей процента) приводит к заметному уменьшению плотности дефектов на поверхности эпитаксиального слоя.
Проведено исследование дефектов легированного бором CVD-алмаза. Установлено, что на плотность дефектов в алмазе сильное влияние оказывают температура осаждения и содержание бора в газовой смеси. Исследовано влияние дефектов на электрические характеристики алмазных диодов Шоттки. Величины пробойных напряжений в изготовленных образцах составляли около 300 В, что соответствует напряженности электрического поля 2.5 В/см. Диоды, при включении в обратном направлении, обладали низкой плотностью тока утечки меньше, чем 10-9 А/см2.
Проведены теоретическое исследование по разработке квазиклассической теории тонких дельта-легированных слоёв алмаза, а также расчёт характерного времени модуляции тока в двумерном приповерхностном газе дырок при изменении их подвижности переменным сильным ортогональным электрическим полем.
ГРНТИ
29.27.51 Применение плазмы
29.27.43 Газовый разряд
Ключевые слова
ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР
СВЧ РАЗРЯД
МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ АЛМАЗ
ЛЕГИРОВАННЫЙ АЛМАЗ
ДЕЛЬТА-СЛОИ В АЛМАЗЕ
ДВУМЕРНЫЙ ДЫРОЧНЫЙ ГАЗ
Детали
НИОКТР
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ НАУЧНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "ФЕДЕРАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЦЕНТР ИНСТИТУТ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ ИМ. А.В. ГАПОНОВА-ГРЕХОВА РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК"
Бюджет
Средства федерального бюджета: 10 391 901 ₽
Похожие документы
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.972
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.959
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.953
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.953
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.953
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.950
ИКРБС
Синтез и обработка новых неорганических материалов с использованием плазмы и микроволнового излучения
0.950
ИКРБС
Полупроводниковый CVD алмаз для мощных и высокочастотных электронных приборов
0.941
ИКРБС
Полупроводниковый CVD алмаз для мощных и высокочастотных электронных приборов
0.935
ИКРБС
ОТЧЕТ о научно – исследовательской работе "Фотоника и электроника новых углеродных материалов" (промежуточный, этап № 1)Номер темы № 0024-2019-0010
0.935
ИКРБС