Испытания образцов печатных плат на макете установки. Исследование образцов печатных плат после испытаний на макете установки. Уточнение режимов работы по результатам испытаний. Выбор оптимального рабочего газа для низкотемпературной плазмы по результатам испытаний. Формирование требований к опытному образцу установки. Разработка эскизной конструкторской документации на опытный образец платы питания установки. Разработка эскизной конструкторской документации на опытный образец системы электродов установки. Разработка эскизной конструкторской документации на опытный образец установки. Изготовление платы питания опытного образца установки. Изготовление корпуса опытного образца установки. Изготовление электродов опытного образца установки. Сборка и отладка опытного образца установки. (промежуточный)

Объектами исследования являются макет, а также опытный образец установки для проведения испытаний по обработке печатных плат. Цель работы – исследование воздействия низкотемпературной плазмы на поверхности печатных плат, разработка и изготовление опытного образца установки. В ходе выполнения НИОКР получены следующие основные результаты: ­ Проведены испытания образцов печатных плат на макете установки, ­ Исследованы образцы печатных плат после испытаний на макете установки, ­ Уточнены режимы работы установки по результатам испытаний, ­ Выбран оптимальный рабочий газ для низкотемпературной плазмы по результатам испытаний, ­ Сформированы требования к опытному образцу установки, ­ Разработана эскизная конструкторская документация на опытный образец платы питания установки, ­ Разработана эскизная конструкторская документация на опытный образец системы электродов установки, ­ Разработана эскизная конструкторская документация на опытный образец установки, ­ Изготовлена плата питания опытного образца установки, ­ Изготовлен корпус опытного образца установки, ­ Изготовлены электроды опытного образца установки, ­Выполнена сборка и отладка опытного образца установки. Полученные результаты предназначены для применения в области плазменных установок, особенно для внедрения плазменной очистки и активации в процесс производства электронных устройств.