Развитие научных основ приготовления оксидных систем с заданными свойствами и катализаторов на их основе

Будут разработаны научные основы синтеза массивных и нанесенных на SiO2 наноструктурированныхV-Mo-Sb-Nb-O катализаторов, перспективных в процессе окислительного дегидрирования этана. При проведении исследований по созданию оксидных и оксид-оксидных носителей для использования в катализе (процессы с участием водорода и кислорода), в водородной энергетике и медицине будут получены оксидные носители с заданными текстурными, структурными и морфологическими свойствами. С использованием различных подходов будут исследованы основные закономерности формирования композитов на основе Al2O3, модифицированных многослойными углеродными нанотрубками (МУНТ). Будет получена информация о природе интерфейсов «углеродная трубка - оксидная матрица». С использованием Ce-Zr-Al, MoO3-MOx оксидных систем и оксидов на основе ненасыщенных цезиевых солей фосфорвольфрамовой гетерополикислоты будут выполнены исследования по синтезу катализаторов с заранее заданными кислотными свойствами для ряда каталитических приложений (газофазное нитрование, ацилирование ароматических соединений, безгалогенное карбонилирование ДМЭ в метилацетат). В результате исследований закономерностей формирования сложных оксидных и гидроксидных систем при взаимодействии ЦТА и СВЧ-активированных продуктов гиббсита с растворами нитратных солей Mg, La и Zr будут получены данные по фазовому и химическому составу продуктов взаимодействия активированного гиббсита с растворами солей La, Zr и Mg. Полученные вещества будут использоваться в качестве прекурсоров для синтеза сложных оксидов. В результате изучения закономерностей формирования нанесенных катализаторов на основе наночастиц золота, палладия и платины будет получена информация о стабильности золей оксида золота, получаемых смешением HAuCl4 и раствора щелочного агента в зависимости от условий синтеза. Также будут разработаны методики приготовления дисперсных образцов Pd, Ru, Rh и Ir катализаторов на оксидных носителях (TiO2, SiO2, Al2O3, ZrO2).