Генерация форвакуумным плазменным источником электронов сфокусированных непрерывных и импульсных электронных пучков для прецизионной обработки диэлектрических материалов.

Цель проекта состоит в исследовании процессов формирования сфокусированных непрерывных и импульсных электронных пучков форвакуумным плазменным источником электронов, а также взаимодействия этих пучков с диэлектрическими материалами (прежде всего высокотемпературными керамиками) и создания научных основ технологии электронно-лучевой прецизионной обработки диэлектриков (сверление, размерная обработка, точечная полировка и др) Достижение указанной цели предполагает решение следующих задач:- отработка экспериментальных методик диагностики поперечных размеров сфокусированного магнитным полем непрерывного и импульсного электронного пучка, генерируемого плазменным источником в форвакуумной области давлений (10-30 Па).- проведение исследований особенностей влияния параметров эмиссионной системы, тока пучка, ускоряющего напряжения, давления и рода газа на процессы фокусировки электронного пучка в области повышенных давлений форвакуумного диапазона ;- исследование процессов взаимодействия сфокусированного электронного пучка с диэлектрическим материалом в зависимости от параметров электронного пучка, а также давления и рода рабочего газа;- численное моделирование процессов взаимодействия сфокусированного непрерывного и импульсного электронного пучка с поверхностью диэлектрика;- определение оптимальных параметров непрерывного и импульсного электронного пучка, обеспечивающих возможность эффективной прецизионной обработки диэлектриков.