Разработка технологических процессов ионно-плазменной очистки и изменения микроструктуры поверхности ПЗЛГ и технологического оборудования ионно-плазменного доведения поверхностей ПЗЛГ

Использование данной технологии позволит существенно снизить время обработки изделий по сравнению с традиционными механико-шлифовальными способами обработки, уменьшить количество бракованных изделий и повысить качество обрабатываемой поверхности. Новизна заключается в том, что одновременно происходит несколько процессов на поверхности изделий (ионная очистка, перераспределение остаточных напряжений и т.д.). При воздействии ВЧ плазмы пониженного давления на поверхность изделий происходит изменение фазового состава и структуры материала, что приводит к улучшению сразу нескольких свойств. Регулируя параметры плазменного потока, можно получить поверхность с заранее заданными свойствами.