НИОКТР
№ АААА-А18-118021990018-2

Разработка требований к элементам новой технологии создания высоковольтных силовых MOSFET приборов на карбиде кремния

14.02.2018

Объект исследования: высоковольтные силовые MOSFET приборы на карбиде кремния.Цель: разработка технологии создания высоковольтных силовых MOSFET приборов на карбиде кремния.Реализация проекта направлена на решение проблемы создания базовой технологии изготовления сложнофункциональных силовых приборов на карбиде кремния, работающих в экстремальных условиях эксплуатации при повышенных температурах и ионизирующем излучении. Данная технология открывает возможность разработок целого класса новых приборов и устройств, а также решения актуальной задачи импортозамещения для приборостроения специального применения, что позволит обеспечить конкурентоспособность авиационной, ракетно-космической отраслей промышленности, автомобильного приборостроения, создание современных средств связи и телекоммуникационной аппаратуры.
ГРНТИ
47.13.11 Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
47.09.29 Полупроводниковые материалы
47.33.29 Дискретные полупроводниковые приборы
Ключевые слова
СИЛОВАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
СИЛОВЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПРИБОРЫ
КАРБИД КРЕМНИЯ
ТЕХНОЛОГИЯ КАРБИД КРЕМНИЕВЫХ ПРИБОРОВ
ВЫСОКОВОЛЬТНЫЕ КАРБИД КРЕМНИЕВЫЕ ДМОП-ТРАНЗИСТОРЫ
Детали

Начало
03.10.2017
Окончание
31.12.2019
№ контракта
Договор № 2704/210
Заказчик
Акционерное общество"Ангстрем"
Исполнитель
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники"
Бюджет
Средства хозяйствующих субъектов: 12 500 000 ₽
Похожие документы
Исследование и разработка технологии создания высоковольтных силовых MOSFET приборов на карбиде кремния
0.989
НИОКТР
Теоретические и экспериментальные исследования технологических операций
0.955
ИКРБС
Выбор направления исследований
0.944
ИКРБС
Исследование макетных и экспериментальных образцов транзистора
0.944
ИКРБС
Разработка конструкторско-технологических решений создания электронной компонентной базы на широкозонных полупроводниках для современной радиоэлектронной аппаратуры в диапазоне частот 30 - 60 ГГц. Экспериментальные исследования поставленных перед ПНИ задач
0.921
ИКРБС
Исследование и разработка конструкции и технологии изготовления транзисторов для применения в СВЧ-усилителях мощности, на основе эпитаксиальных структур GaN, выращенных на полуизолирующем карбиде кремния 4Н 4 дюйма, с целью импортозамещения
0.919
ИКРБС
Разработка теоретических и технологических основ создания планарных приборных структур на основе широкозонных полупроводниковых материалов для экстремальной микро- и наноэлектроники в аэрокосмическом приборостроении
0.918
НИОКТР
"Разработка и серийное освоение 3D и планарной технологии производства карбидкремниевых полупроводниковых приборов" в рамках реализации комплексного проекта № 02.G25.31.0201 "Создание технологической линии, разработка и серийное освоение на ее базе карбидкремниевых 3D и планарной технологий"
0.917
НИОКТР
Исследование и разработка технологии изготовления сверхвысокочастотных монолитных интегральных схем на основе гетероструктур InAlN/GaN для изделий космического применения
0.916
НИОКТР
Обобщение и оценка результатов (заключительный)
0.915
ИКРБС