Исследование влияния параметров газового разряда магнетрона при высокомощном импульсном распылении (HiPIMS) на свойства осаждаемых покрытий

27.12.2018

Работа посвящена изучению тлеющего разряда магнетрона при высокомощном импульсном распылении (HiPIMS — High Power Impulse Magnetron Sputtering). Эта технология позволяет осаждать как проводящие (распыление металлических мишеней в аргоне) так и диэлектрические покрытия (распыление металлических мишеней в смеси аргона и реактивного газа (или газов) — кислород, азот, кислород + азот и др ), при этом их качество (в основном плотность плёнки и адгезия к подложке) значительно возрастает. Результаты данной работы должны существенно расширить представления о характерных физических процессах, происходящих в высокомощном импульсном газовом разряде и выяснить их влияние на свойства осаждаемых по этой технологии покрытий.

ГРНТИ

29.27.49 Диагностика плазмы

Ключевые слова

HIPIMS

ТОНКИЕ ПЛЁНКИ

ИСПАРЕНИЕ МИШЕНИ

ВЫСОКОСКРОСТНОЕ ОСАЖДЕНИЕ

ВЫСОКОМОЩНЫЙ РАЗРЯД

ЗОНД ЛЕНГМЮРА

OES

НАГРЕВ ПОДЛОЖКИ

Детали

Начало

01.01.2018

Окончание

31.12.2019

№ контракта

№ 18-32-01063\18 / ГМПИ/ФЭТ-123

Заказчик

ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "РОССИЙСКИЙ ФОНД ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ"

Исполнитель

Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет “ЛЭТИ” им. В.И. Ульянова (Ленина)"

Бюджет

Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 1 000 000 ₽

Похожие документы

Разработка основ практического применения высокомощного импульсного магнетронного распыления для осаждения пленок металлов и их соединений

0.951

Диссертация

Высокоскоростное ионно-ассистированное осаждение покрытий в импульсном магнетронном разряде в парах материала мишени

0.921

НИОКТР

Мощная магнетронная система в режиме самораспыления с внешней инжекцией электронов

0.917

НИОКТР