Генерация стационарных мощных низкоэнергетичных электронных пучков форвакуумными плазменными источниками для высокотемпературной электронно-лучевой обработки диэлектриков и других материалов.

Проект направлен на фундаментальное исследование особенностей получения на основе так называемых форвакуумных плазменных источников низкоэнергетичных (до 20 кэВ) стационарных пучков электронов в диапазоне давлений среднего вакуума (5-50 Па), с мощностью пучка уровня 10 кВт. В условиях генерации мощного электронного пучка при повышенных давлениях будут исследованы особенности формирования плотной плазмы и стабилизации эмиссионной границы плазмы, процессы формирования, ускорения и транспортировки электронного пучка, влияния остаточной газовой атмосферы и пучковой плазмы, а также особенности воздействия мощного электронного пучка на высокотемпературные диэлектрики (главным образом керамики) и другие материалы. В результате выполнения проекта будут определены условия генерации в таких системах мощных электронных пучков с параметрами и характеристиками, обеспечивающими возможность их эффективного использования в инновационных технологических процессах высокотемпературной электронно-лучевой обработки диэлектриков и других материалов (нагрев, плавка, испарение, нанесение покрытий и др.).