Исследование оптических и фотоэлектрических свойств ультрапористых нанокристаллических оксидных материалов и оптимизация технологии их формирования для создания УФ сенсоров с улучшенными функциональными характеристиками-

В рамках проекта предполагается комплексное исследование, включающее разработку методов создания новых оксидных материалов для УФ сенсорики и исследования механизмов улучшения их функциональных свойств за счет контроля микроструктуры, морфологии, химического и фазового состава ультрапористых оксидных слоев.Фоточувствительные наноструктурированные слои на основе композиций широкозонных оксидных полупроводников (ZnO, In2O3, Ga2O3, MgO и др.) будут получены двухстадийным способом, в котором на первом этапе на подложках будут получены ультрапористые металлические осадки методами магнетронного распыления и/или термического испарения, а на втором этапе будет проводиться термическое окисление сформированных металлических слоев. В методическом аспекте предполагаемый способ синтеза фоточувствительных оксидных слоев с возможностью масштабирования имеет признаки новизны и прикладной потенциал.Ожидаемые научные результаты:1. Закономерности образования пористых металлических осадков от условий осаждения физическими методами. Модели образования металлических слоев с ультраразвитой поверхностью;2. Закономерности процесса окисления металлических слоев от их химического состава, структуры, морфологии и условий окисления;3. Закономерности между структурой, химическим составом, морфологией наноструктурированного пористого оксидного слоя и его оптическими и фотоэлектрическими свойствами;4. Модели образования нанокристаллических оксидных полупроводниковых слоев различной архитектуры;5. Разработка и оптимизация двухстадийного способа синтеза металлоксидных пленок с возможностью масштабирования и дальнейшем использовании металлоксидных пленок в качестве активного слоя УФ чувствительной гетероструктуры, в том числе энергонезависимого типа.