Электронно-лучевая и ионно-плазменная модификация электроизоляционных и диэлектрических конструкционных материалов импульсным форвакуумным плазменным источником электронов на основе дугового разряда

Электроизоляционные и диэлектрические конструкционные материалы, такие как керамика, полимеры и стекла в настоящее время широко используются в различных отраслях промышленности и медицины. Поэтому задачи, связанные с развитием существующих и поиском новых методов производства и обработки данных материалов, обладают актуальностью. В частности, форвакуумные плазменные источники, которые обеспечивают генерацию непрерывных и импульсных электронных пучков в форвакуумном диапазоне давлений 1–100 Па, позволяют осуществлять непосредственную обработку диэлектрических материалов низкоэнергетичными электронными пучками. В тоже время необходимы детальные исследования генерации импульсного низкоэнергетичного электронного пучка и объемной пучковой плазмы в форвакуумном диапазоне давлений для достижения параметров и характеристик, необходимых для эффективной модификации поверхностных свойств электроизоляционных и диэлектрических конструкционных материалов с целью получения необходимых параметров поверхности материалов и изделий. Цель научного проекта заключается в комплексном исследовании генерации низкоэнергетичного (до 10 кэВ) широкоапертурного электронного пучка и объемной пучковой плазмы импульсным плазменным источником электронов на основе дугового разряда в форвакуумном диапазоне давлений для развития технологии электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации электроизоляционных и диэлектрических конструкционных материалов, таких как керамики, полимеры и стекла с целью придания им необходимых поверхностных свойств. В ходе выполнения научно-исследовательской работы будет проведено комплексное изучение процессов генерации и формирования импульсного низкоэнергетичного электронного пучка и объемной пучковой плазмы с помощью импульсного форвакуумного плазменного источника электронов применительно к модификации электроизоляционных и диэлектрических конструкционных материалов. Будут определены оптимальные параметры импульсного электронного пучка и пучковой плазмы для обработки диэлектрических материалов в форвакуумном диапазоне давлений.