НИОКТР
№ 121082500131-2

Ионно-плазменная модификация внутренних поверхностей узких протяженных трубчатых изделий в системе несамостоятельного тлеющего разряда с полым катодом, поддерживаемого электронным пучком в форвакуумной области давлений

20.08.2021

Проект направлен на решение научной проблемы генерации плотной однородной газовой плазмы внутри узких полостей трубчатых металлических изделий для осуществления процессов ионно-плазменной обработки их внутренних поверхностей. Актуальность решения данной проблемы связана с тем, что процессы обработки мелкогабаритного инструмента и изделий, содержащих узкие протяженные полости, методами ионно-плазменной обработки все еще испытывают значительные затруднения. Поэтому стремление к повышению эксплуатационных характеристик и ресурса таких изделий требует поиска новых научных подходов, на что и направлен данный проект. Идея, лежащая в основе проекта, состоит в генерации плотной плазмы в ограниченных объемах посредством несамостоятельного тлеющего разряда, инициируемого и управляемого низкоэнергетичным электронным пучком. в условиях повышенных давлений форвакуумного диапазона (3-100 Па) При этом электронный пучок, наряду с осуществлением эффективной ионизации, обеспечивает также процессы замыкания разрядного тока. Привлекательность данного подхода связана с возможностью проведения ионно-плазменной модификации внутренних поверхностей протяженных металлических трубчатых изделий. Переход в данный диапазон давлений для электронно-пучковых технологий стал целесообразен лишь благодаря развитию так называемых форвакуумных плазменных источников электронов, способных производить генерацию электронного пучка непосредственно в указанной области давлений. Эта область давлений является оптимальной для эффективной ионизации газовой среды в области распространения электронного пучка. В то же время при данных давлениях процессы рассеяния электронов не столь интенсивны, чтобы приводить к расфокусировке пучка, что принципиально при его прохождении через узкую полость. Сформулированные в проекте задачи исследования, а, именно, изучение процессов транспортировки сфокусированного электронного пучка в ограниченном объеме протяженных трубчатых изделий, инициирования и поддержания специфической формы тлеющего разряда в узкой протяженной полости и применение разрядной плазмы для ионно-плазменной обработки внутренних поверхностей узких протяженных металлических трубчатых изделий при повышенных давлений форвакуумного диапазона, будут решаться впервые.
ГРНТИ
29.27.23 Пучки в плазме
29.27.43 Газовый разряд
29.27.51 Применение плазмы
Ключевые слова
форвакуумный плазменный источник электронов
газовый разряд
электронный пучок
ионно-плазменная обработка
Детали

Начало
27.07.2021
Окончание
30.06.2024
№ контракта
21-79-10217
Заказчик
Российский научный фонд
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ТОМСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ СИСТЕМ УПРАВЛЕНИЯ И РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 16 500 000 ₽
Похожие документы
ИОННО-ПЛАЗМЕННАЯ МОДИФИКАЦИЯ ВНУТРЕННИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ УЗКИХ ПРОТЯЖЕННЫХ ТРУБЧАТЫХ ИЗДЕЛИЙ В СИСТЕМЕ НЕСАМОСТОЯТЕЛЬНОГО ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА С ПОЛЫМ КАТОДОМ, ПОДДЕРЖИВАЕМОГО ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ
0.947
ИКРБС
ИОННО– ПЛАЗМЕННАЯ МОДИФИКАЦИЯ ВНУТРЕННИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ УЗКИХ ПРОТЯЖЕННЫХ ТРУБЧАТЫХ ИЗДЕЛИЙ В СИСТЕМЕ НЕСАМОСТОЯТЕЛЬНОГО ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА С ПОЛЫМ КАТОДОМ, ПОДДЕРЖИВАЕМОГО ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ (промежуточный)
0.936
ИКРБС
Научные основы генерации электронных пучков субмиллисекундной длительности в источнике на основе высоковольтного тлеющего разряда с плазменными эмиттерами для эффективной модификации поверхности металлов и сплавов
0.920
НИОКТР
Форвакуумный плазменный источник электронов на основе дугового разряда для электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации протяженных диэлектрических изделий
0.919
НИОКТР
Особенности эмиссии электронов из плазмы и формирования электронных пучков в области повышенных давлений форвакуумного диапазона для пучково-плазменной модификации материалов
0.915
НИОКТР
Локальное ионно-плазменное травление диэлектриков, инициируемое и контролируемое электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений
0.911
НИОКТР
Локальное ионно-плазменное травление диэлектриков, инициируемое и контролируемое электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений
0.911
НИОКТР
Формирование ионных потоков из электронно-пучковой плазмы для обработки поверхностей в форвакуумном диапазоне давлений
0.910
НИОКТР
Генерация в тлеющем разряде атмосферного давления плазмы с высоким содержанием металлического компонента для получения ультрадисперсных порошков и нанесения покрытий
0.910
НИОКТР
Генерация пучков заряженных частиц и потоков низкотемпературной плазмы на основе дугового и тлеющего разрядов, в том числе в экстремальных условиях функционирования, для пучково-плазменной модификации материалов
0.909
НИОКТР