Разработка установки безмасочной рентгеновской нанолитографии на основе МЭМС динамической маски для формирования наноструктур с размерами от 13 нм и ниже на базе синхротронного и/или плазменного источника

Объект исследований – технологические решения в области безмасочной рентгеновской литографии. Целью выполнения НИР является экспериментальная проверка основных технологических решений в области безмасочной рентгеновской нанолитографии: изготовление и экспериментальное исследование макетов МЭМС динамической маски (в вариантах конструкции с управлением коэффициентом пропускания рентгеновского излучения и с управлением коэффициентом отражения рентгеновского излучения), а также разработка на основе полученных результатов технического облика установки безмасочной рентгеновской нанолитографии, включая обоснование параметров источника рентгеновского излучения, оптической системы (включая МЭМС динамическую маску), вакуумной системы, системы совмещения и позиционирования. При выполнении НИР должны быть решены следующие задачи: 1 Разработка, изготовление и экспериментальное исследование макетов МЭМС динамической маски: - в варианте конструкции с управлением коэффициентом пропускания рентгеновского излучения; - в варианте конструкции с управлением коэффициентом отражения рентгеновского излучения. 2 Обоснование и разработка облика МЭМС динамической маски: - в варианте конструкции с управлением коэффициентом пропускания рентгеновского излучения; - в варианте конструкции с управлением коэффициентом отражения рентгеновского излучения. 3 Разработка и экспериментальные исследования образцов резистов, чувствительных к рентгеновскому излучению. 4 Обоснование и разработка облика синхротронной станции, работающей в качестве источника рентгеновского излучения. 5 Обоснование и разработка облика плазменного источника рентгеновского излучения. 6 Обоснование и разработка облика установки безмасочной рентгеновской нанолитографии. 7Разработка ТЗ на ОКР.