Проведение теоретического анализа температурных режимов искрового плазменного спекания и возможности создания высокоэффективного низкотемпературного термоэлектрического материала используя сочетание методов искрового плазменного спекания и горячей экструзии в едином технологическом процессе.

Твердые растворы на основе халькогенидов висмута и сурьмы являются основными термоэлектрическими материалами, используемыми компаниями, серийно производящими термоэлектрические охлаждающие и генераторные модули. Технология получения термоэлектрических материалов является ключевым аспектом при изготовлении термоэлектрических устройств, и её значение особенно возрастает при создании миниатюрных систем охлаждения для микроэлектроники, оптоэлектроники и лазерной техники, где предельно высоки требования к эффективности и надежности. Целью работы является получение низкотемпературных термоэлектрических материалов используя сочетание методов искрового плазменного спекания и горячей экструзии в едином технологическом процессе, который даст возможность получать материал, сочетающий преимущества обоих методов: наличие направленной мелкозернистой структуры (экструзия) и пониженная решеточная теплопроводность за счет рассеяния фононов на границах зерен (искровое плазменное спекание). Это позволит повысить термоэлектрическую эффективность до значений, превышающих добротность кристаллических материалов, а также повысить термостабильность свойств, что особенно важно для работы термоэлектрических устройств.