Генерация радиально сходящегося электронного пучка в источнике с сеточным многодуговым плазменным катодом для всесторонней модификации поверхности металлических изделий сложной формы

Перспективность использования источников электронов с плазменным катодом на основе дугового разряда низкого давления, граница катодной плазмы в котором стабилизирована металлической сеткой, и плазменным анодом с открытой границей плазмы, а электронный пучок ускоряется между этими плазмами, неоднократно была продемонстрирована для модификации поверхности различных материалов и изделий, приводящая к кратному улучшению функциональных свойств их поверхности, недостижимых другими способами, что однозначно подтверждает необходимость дальнейшего развития и внедрения оборудования такого класса. Однако сложность формы большинства обрабатываемых изделий сдерживает внедрение такого оборудования в конкретный технологический процесс. Именно поэтому, с учетом огромного опыта, накопленного сотрудниками лаборатории плазменной эмиссионной электроники Института сильноточной электроники (ИСЭ СО РАН), в которой уже много лет занимаются разработкой подобного оборудования и сотрудниками которой являются все участники проекта, в рамках данного проекта предполагается разработать научные основы генерации радиально сходящихся электронных пучков с уникальными параметрами, используя источник с плазменным катодом для всесторонней модификации поверхности металлических изделий сложной формы (пары трения, стенты и др.).Новизна проекта заключается в определении научных подходов к созданию уникального оборудования, позволяющего проводить модификацию поверхности изделий цилиндрической формы путем создания источника с многодуговым сетчатым плазменным катодом на основе дуги низкого давления с радиально сходящимся электронным пучком.