Физические основы электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации диэлектрических материалов, а также синтеза диэлектрических покрытий в форвакуумной области давлений.

Научная деятельность лаборатории будет направлена на решение актуальной научной проблемы - выявлению физических основ и особенностей электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации поверхностных свойств диэлектрических материалов (керамики, стекла, полимеров, боридов, карбидов и др.) а также синтеза диэлектрических покрытий в форвакуумной области давлений. Научно-практическая значимость результатов исследований лаборатории заключается в создании научных основ технологии получения и модификации керамических, металлокерамических, кремнеуглеродных высокопрочных покрытий, синтезируемых из пучковой плазмы при испарении твердотельных диэлектрических мишеней электронным пучком в ранее недоступной области повышенных давлений форвакуумного диапазона. Ключевой особенностью и принципиальным отличием исследовательской деятельности лаборатории является использование в качестве инструмента воздействия созданного сотрудниками уникального генератора электронного пучка – форвакуумного плазменного источника электронов. Электронный источник такого типа обеспечивает генерацию электронных пучков в ранее недоступной области повышенных давлений форвакуумного диапазона от единиц до сотни Паскалей, что делает возможным непосредственное воздействие электронного пучка на электрически непроводящие материалы. Перспектива использования диэлектрических покрытий и материалов для задач практики заключается в создании на основе разработанного метода защитных и функциональных покрытий и новых материалов с «полярными» свойствами и высокими эксплуатационными параметрами и характеристиками. Такие материалы и покрытия широко используются во многих отраслях промышленности, таких как микроэлектроника, медицина, авиастроение и др.