Исследование магнитных свойств железосодержащих плёнок, полученных методом ионной имплантации

Современная кремниевая электроника имеет свои пределы, к которым технологические циклы производства микроэлектронных устройств уже вплотную приблизились. Дальнейшее совершенствование электронных устройств, их миниатюризация, повышение производительности и энергоэффективности требует применения совершенно новых концепций. Одним из таких перспективных направлений является спинтроника. Однако для создания спинтронных устройств необходимо иметь материалы, которые обладают одновременно полупроводниковыми и ферромагнитными свойствами. Материалами, перспективными с этой точки зрения, являются разбавленные магнитные оксиды. Сочетание ферромагнитных и полупроводниковых свойств в них достигается путем легирования полупроводникового материала магнитными ионами. Метод ионной имплантации может сыграть большую роль в этих исследованиях. Это связано с уникальными возможностями метода, а именно, точный контроль количества и химическая чистота внедряемых ионов, модификация тонкого слоя, а также возможность модификации приповерхностного слоя в метастабильное состояние. Кроме того, метод является технологическим, т.е. уже используется в создании микроэлектронных устройств.В данном проекте планируется исследование оксидов, имплантированных ионами железа. Ожидается, что в результате высокодозной имплантации оксиды могут проявлять магнитные свойства. Будут исследованы характеристики этого магнитного отклика, магнитная микроструктура носителей магнетизма в синтезированных материалах.