НИОКТР
№ 124042500005-7

Эпитаксиальные наноструктуры функциональных оксидов на германиевой платформе для спинтроники

18.04.2024

Использование функциональных оксидов перспективных электронных устройствах подразумевает их интеграцию с полупроводниковыми технологическими платформами. Основные усилия направлены на сопряжение функциональных оксидов с кремнием. В то же время германий, ввиду высокой подвижности носителей и значительного спин-орбитального взаимодействия, обладает преимуществами для ряда приложений. Однако общие методы создания эпитаксиальных гетероструктур оксид/германий еще не созданы. Основная цель проекта состоит в разработке устойчивых методик эпитаксиальной интеграции функциональных оксидов с германием. Для создания оптимального спинового контакта EuO/Ge будет исследован синтез с использованием графеновой прослойки. В качестве итога будут выработаны общие рецепты синтеза кристаллических оксидов на германии и всесторонне исследована новая перспективная система полупроводниковой спинтроники EuO/графен/Ge.
ГРНТИ
29.19.16 Физика тонких пленок. Поверхности и границы раздела
29.19.22 Физика наноструктур. Низкоразмерные структуры. Мезоскопические структуры
29.19.39 Ферромагнетики
Ключевые слова
ферромагнетизм
оксид европия
графен
германий
полупроводники
спиновая инжекция
спинтроника
Детали

Начало
15.08.2023
Окончание
30.06.2025
№ контракта
20-79-10028-П
Заказчик
Российский научный фонд
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЦЕНТР "КУРЧАТОВСКИЙ ИНСТИТУТ"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 12 000 000 ₽
Похожие документы
Эпитаксиальные наноструктуры функциональных оксидов на германиевой платформе для спинтроники
0.994
НИОКТР
Эпитаксиальные наноструктуры функциональных оксидов на германиевой платформе для спинтроники (промежуточный, этап 2023-2024 гг.)
0.954
ИКРБС
Эпитаксиальные гетероструктуры на основе функциональных оксидных пленок нанометровой толщины для элементов спинтроники, в том числе сверхпроводниковой
0.933
НИОКТР
Эпитаксия арсенид галлиевых гетероструктур на подложке Si/Ge
0.925
НИОКТР
Эпитаксиальная интеграция пленок EuO с кремнием и свойства полученных гетероструктур
0.922
Диссертация
Эпитаксиальное выращивание и исследование многослойных гетероструктур на основе слоев Ge для фотодетекторов ближнего ИК диапазона с улучшенными функциональными свойствами
0.921
НИОКТР
-Рекомбинация носителей заряда и плазмонные эффекты в сильнолегированных эпитаксиальных слоях германия n-типа
0.914
НИОКТР
Исследование процессов релаксации кристаллической структуры эпитаксиальных пленок в процессе синтеза псевдоморфных и напряженных гетероэпитаксиальных пленок Ge/Si, GeSi/Si
0.914
НИОКТР
Физико-технологические основы роста гетероструктур Ge/Si(100) и формирование на них оптоэлектронных элементов нового поколения
0.914
НИОКТР
Физико-технологические основы роста гетероструктур Ge/Si(100) и формирование на них оптоэлектронных элементов нового поколения
0.914
НИОКТР