Разработка технологии получения тонких пленок литированных оксидных систем металлов методом атомно-слоевого осаждения для твердотельных источников тока, применяемых в наноразмерных электронных устройствах в качестве источника питания

В результате реализации проекта будут разработаны научно-технологические основы синтеза тонкопленочных материалов литиевых источников тока на базе литированных оксидов металлов (Sn, Al, Co и др.) методом атомно-слоевого осаждения. Предполагается детальное изучение новых процессов: влияния параметров синтеза, в том числе материала подложки и кислород содержащих реагентов на процесс синтеза и физико-химические свойства тонких пленок: химический, фазовый, структурный составы, валентное состояние химических элементов, морфология покрытия, скорость роста пленок при различных технологических параметрах синтеза и др. Исследования электрохимических характеристик синтезированных тонких пленок будут направлены на изучение циклической стабильности и удельной емкости материалов при различных плотностях тока (до 50 С) и электрохимических процессов переноса заряда при разных конечных напряжениях заряда/разряда.