Форвакуумный плазменный источник широкоапертурного пучка электронов на основе разрядной системы планарного магнетрона для модификации диэлектрических материалов

Цель проекта заключается в разработке и исследовании плазменного источника электронов на основе разрядной системы планарного магнетрона для генерации низкоэнергетичного (до 10–12 кэВ) широкоапертурного электронного пучка в импульсном и непрерывном режимах в форвакуумной области давлений (3–30 Па) применительно для модификации диэлектрических материалов (керамики, полимеры, стекла). Впервые в форвакуумном плазменном источнике электронов будет использована разрядная система на основе планарного магнетронного разряда для генерации эмиссионной плазмы. Будут выявлены особенности функционирования планарного магнетронного разряда в условиях отбора электронов и поступления положительных ионов из пучковой плазмы, формируемой вследствие ионизации рабочего газа. В ходе реализации проекта будет разработан прототип нового типа форвакуумного плазменного источника на основе разрядной системы планарного магнетрона, обеспечивающего генерацию низкоэнергетичного широкоапертурного электронного пучка в импульсном и непрерывном режимах. Будут установлены параметры электронного пучка и газовой среды, которые оказывают более существенное влияние на характеристики поверхности обрабатываемых диэлектриков.