Промышленная инновация
№ 20-003-22Изготовление металлических межсоединений.
11.05.2022
Изобретение относится к области технологии производства полупроводниковых приборов, в частности к технологии изготовления межсоединений с пониженным значением сопротивления. Предложенный способ изготовления металлических межсоединений нанесением методом электронно-лучевого испарения нижнего слоя хрома толщиной 5-20 нм, со скоростью осаждения 0,1 нм/с, при давлении 10*-9 мм.рт.ст., затем слоя меди толщиной 450 нм, со скоростью осаждения 0,5 нм/с, затем верхнего слоя хрома толщиной 5-30 нм, со скоростью осаждения 0,1 нм/с, с последующим отжигом при температуре 400°C в атмосфере Ar-Н2 в течение 30 мин, позволяет повысит процент выхода годных приборов и улучшит их надежность. Технический результат: снижение сопротивления, обеспечение технологичности, улучшение параметров приборов, повышение качества и увеличения процента выхода годных.
ГРНТИ
47.09.29 Полупроводниковые материалы
Детали
Отрасль ТЭК
Электроэнергетика
Критически значимая технология
5 технологический уклад; Опто-, радио- и акустоэлектроника, оптическая и сверхвысокочастотная связь.
Инновационность
Отсутствует.
Эффект от внедрения
Повышение КПД на 20 %.
Филиал РЭА
Ставропольский ЦНТИ - филиал ФГБУ "РЭА"
Владелец
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ЧЕЧЕНСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМЕНИ АХМАТА АБДУЛХАМИДОВИЧА КАДЫРОВА"
Похожие документы
Способ изготовления металлических межсоединений
0.971
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора с многослойными проводниками
0.919
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора
0.915
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора
0.912
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора
0.909
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора
0.909
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора
0.908
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора
0.906
РИД
Способ формирования межслойных переходов в многослойной металлокерамической плате
0.906
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора
0.906
РИД