Способ получения структуры тонкопленочного катода

Способ получения структуры тонкопленочного катода предназначен для получения структуры тонкопленочного катода на основе системы Li2Fe0,5Mn0,5SiO4 с высокой удельной ёмкостью и циклической стабильностью, равномерным распределением химического состава по объему, и монокристаллической бездефектной структурой. в качестве основы выбирают токоснимающую алюминиевую подложку, с шероховатой поверхностью, которую помещают в камеру для нанесения тонких пленок, и сушат в вакууме в течении 1 – 3 часа, после чего при температуре 200 – 250 0С проводят последовательный процесс нанесения атомного слоя оксида железа (FeO), атомного слоя оксида марганца (MnO), атомного слоя оксида лития (Li2O), атомного слоя оксида кремния (SiO2), с использованием металлорганических прекурсоров, далее проводят термическую обработку в импульсном режиме при температуре 600 – 650 0С в течении 0,1 – 0,2 секунд, последовательность нанесения атомных слоев повторяют до формирования тонкопленочного катода толщиной 100 – 200 н