Устройство для вакуумно-плазменного осаждения материалов с ионной стимуляцией

Устройство для вакуумно-плазменного осаждения материалов с ионно стимуляцией относится к области устройств для формирования пленочных покрытий различного назначения. Устройство может быть использовано в микро- и наноэлектронике, в автомобилестроении, при формировании защитных и биосовместимых слоев дентальных и ортопедических имплантов, при изготовлении технологических слоев электролитических ячеек тонкопленочных слоев электролитических ячеек тонкопленочных интегральных аккумуляторов, в химических реакторах, работающих в агрессивных средах и в условиях высоких температур.